型号/规格:620162#$%^163#$%^164#$%^165#$
产品描述:EVG公司是一家致力于半导体制造设备的供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合...
型号/规格:PhableR 10018#$%^19#$贸易商%^141#$全新%^638#$%^20#$ 瑞士
产品描述:PhableR 100 光刻机提供了一种前所未有的功能,它是一套低成本的光学曝光系统,但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似,涂覆了光刻胶的晶...
产品描述:品牌:恩科优(N&Q) 型号:NXQ400-6 产地:美国 一、产品简介: MYCRO原装美国恩科优N&Q系列光刻机(Mask Aligner),是的光刻系统...
型号/规格:N&Q4006
产品描述:品牌:恩科优(N&Q) 型号:NXQ400-6 一、产品简介: MYCRO原装恩科优N&Q系列光刻机(Mask Aligner),是的光刻系统,在光刻领域有过35...
型号/规格:手动光刻机102#$mikasa%^103#$制造商%^139#$全新%^104#$日本
产品描述:手动光刻机,便宜,性能好。 产地;日本 可根据客户具体要求,定制。 适合研发类用户 曝光类型:单面 ◆曝光面积:≥φ115mm ◆曝光不均匀性:≤±3% ...
Ushio 紫外线汞灯 ??ASML、CANON、Ultratech、Nikon等大型光刻机 光源灯
型号/规格:Ushio102#$Ushio %^103#$制造商%^139#$全新%^104#$日本
产品描述:日本Ushio 公司是的半导体光刻设备光源供应商,占有份额。 ???? 特点: 、Ultr...
型号/规格:USHIO102#$%^103#$制造商%^139#$全新%^104#$日本
产品描述:详细信息 UX-4系列全自动投影式光刻设备主要运用于大尺寸的LED芯片生产和研发。同时又可以运用于半导体MEMS芯片的新品开发和大批量生产。 特点: *限度...
Ushio 手动光刻机(MANUAL EXPOSURE SYSTEM
型号/规格:Ushio102#$%^103#$制造商%^139#$全新%^104#$日本
产品描述:Ushio手动光刻设备UPE-1102LU主要应用于LED芯片(蓝白光,红黄光)研发和生产当中,并且对全自动生产线所产生的LED芯片破片有辅助生产和处理的功能。同时也能...
型号/规格:NQ400618#$MYCRO%^19#$贸易商%^141#$全新%^20#$美国
产品描述:MYCRO原装进口N&Q恩科优光刻机,包含NQ800-8, NQ800-6, NQ800-6-Sapphire, NQ400-6,NQ400-8五个型号,是的光刻系统,该系列光刻机广泛应用于半导体和微电...
型号/规格:URE-2000/1710#$%^11#$制造商%^134#$全新%^12#$
产品描述:我公司的光刻机技术来源于中国科学院光电技术研究所,采用的193nm投影式光刻技术是国家863重大科技成果转化项目,曾先后荣获国家科技进步二等、三等奖,中国...
型号/规格:URE-2000/3550#$IOE%^51#$制造商%^129#$全新%^52#$CN
产品描述:URE系列紫外光刻机系我公司重点推荐产品 曾出口:新加坡,韩国,朝鲜,缅甸,老挝等
型号/规格:U2000/17102#$%^103#$%^139#$%^104#$
产品描述:应用领域 集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器、生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻,波导阵列光刻、液晶显示、声表器件...
型号/规格:DS-2000/1.028#$OSK%^39#$制造商%^127#$全新%^40#$
产品描述:应用领域 集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器、生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻,波导阵列光刻、液晶显示、声表器件...
型号/规格:URE102#$-%^103#$%^139#$%^104#$
产品描述:技术特征—— 非常适合工厂(效率高,操作傻瓜型,自动型)和高校教学科研(可靠性好,演示方便) 采用技术——积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应和实现均匀...
产品描述:全自动光刻机的详细信息电压:(V)功率:、、、、(W)产品规格:产品用途:频率:——(Hz)重量:(kg)外形尺寸:**(mm) ...