品牌：恩科优（N＆Q）
型号：NXQ400-6
一、产品简介：
MYCRO原装恩科优N＆Q系列光刻机（Mask Aligner），是的光刻系统，在光刻领域有过35年的经验。广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域。如美国航空航天公司、美国朗唐纳、飞利浦、摩托罗拉、惠普、美国半导体公司、美国国际整流公司、斯坦福大学、美国加州大学伯克利分校、伦敦大学、台塑、墨尔本大学、华盛顿州立大学、方大集团股份有限公司、大联大集团、厦门乾照光电股份有限公司等等。
恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N＆Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统的操作性，的分辨率，均匀的光学系统，现代的接近式和接触式光刻及的性价比，使恩科优光刻系统已经被各地众多企业、研发中心、研究所和高校采用，并成为他们光刻系统的；
二、技术参数：
1、曝光面积：5mm~150mm
2、分辨率：0.55微米；
3、对准：采用双面对准技术，可0.5微米；
4、光强均匀度：＋/-3%（4英寸）和＋/-4%（6英寸）。
5、曝光模式：支持接近式曝光，各种接触式（真空接触、软接触、硬接触等）曝光；
a、接近式曝光特征尺寸：
1um＠Gap为20 um；
2um＠Gap为50 um；
b、接触式曝光特征尺寸：
0.35um＠深紫外DUV；
0.5um＠近紫外NUV；
0.6um＠紫外UV；
更广范围（UV，DUV，NUV）的紫外光波长选择，出射光强范围：8mW/cm2~40mW/cm2
支持恒定光强或恒定功率模式；
6、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸（2 x 2英寸需要掩膜转换器）；
7、样片尺寸直径：5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎片（支持对不规则碎片的卡盘设计）；
8、厚度：10mm
9、光强均匀性Uniformity：
<±1%over 2"区域；
<±2%over 4"区域；
<±3%over 6"区域；
10、汞灯功率：350W/500W
11、曝光波长：350nm-450nm
12、电源：高灵敏度光强可控电源。
三、产品特点：
可选支持单面对准和双面对准设计；
高清晰彩色双CCD镜头采用的分裂视场显微镜镜头（基于无限远修正的CCD镜头设计）；双头高清全彩物镜（单视场或分裂视场可供用户灵活选择）；
高清彩色双显示屏；
气动轴承导轨设计，高精准，低磨损，无需售后维护的；
具有自动执行楔形误差补偿，并在找平后自动定位功能；
操作简易，具有支持多操作员同台使用的友好操作界面；
操控手柄调控模式的设计；
采用LED穿透物镜照明技术，具有强对准亮度；
采用基于无限远修正的显微镜镜头架构；
衍射反射的光学光路设计；
带保护功能的温度和气流传感器；
全景准直透镜光线偏差半角：<1.84度；
设备稳定性，耐用性；
需要更详细的恩科优光刻机产品资料
请与迈可诺技术有限公司中销服务中心区域办公室联系！
型号：NXQ400-6
一、产品简介：
MYCRO原装恩科优N＆Q系列光刻机（Mask Aligner），是的光刻系统，在光刻领域有过35年的经验。广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域。如美国航空航天公司、美国朗唐纳、飞利浦、摩托罗拉、惠普、美国半导体公司、美国国际整流公司、斯坦福大学、美国加州大学伯克利分校、伦敦大学、台塑、墨尔本大学、华盛顿州立大学、方大集团股份有限公司、大联大集团、厦门乾照光电股份有限公司等等。
恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N＆Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统的操作性，的分辨率，均匀的光学系统，现代的接近式和接触式光刻及的性价比，使恩科优光刻系统已经被各地众多企业、研发中心、研究所和高校采用，并成为他们光刻系统的；
二、技术参数：
1、曝光面积：5mm~150mm
2、分辨率：0.55微米；
3、对准：采用双面对准技术，可0.5微米；
4、光强均匀度：＋/-3%（4英寸）和＋/-4%（6英寸）。
5、曝光模式：支持接近式曝光，各种接触式（真空接触、软接触、硬接触等）曝光；
a、接近式曝光特征尺寸：
1um＠Gap为20 um；
2um＠Gap为50 um；
b、接触式曝光特征尺寸：
0.35um＠深紫外DUV；
0.5um＠近紫外NUV；
0.6um＠紫外UV；
更广范围（UV，DUV，NUV）的紫外光波长选择，出射光强范围：8mW/cm2~40mW/cm2
支持恒定光强或恒定功率模式；
6、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸（2 x 2英寸需要掩膜转换器）；
7、样片尺寸直径：5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎片（支持对不规则碎片的卡盘设计）；
8、厚度：10mm
9、光强均匀性Uniformity：
<±1%over 2"区域；
<±2%over 4"区域；
<±3%over 6"区域；
10、汞灯功率：350W/500W
11、曝光波长：350nm-450nm
12、电源：高灵敏度光强可控电源。
三、产品特点：
可选支持单面对准和双面对准设计；
高清晰彩色双CCD镜头采用的分裂视场显微镜镜头（基于无限远修正的CCD镜头设计）；双头高清全彩物镜（单视场或分裂视场可供用户灵活选择）；
高清彩色双显示屏；
气动轴承导轨设计，高精准，低磨损，无需售后维护的；
具有自动执行楔形误差补偿，并在找平后自动定位功能；
操作简易，具有支持多操作员同台使用的友好操作界面；
操控手柄调控模式的设计；
采用LED穿透物镜照明技术，具有强对准亮度；
采用基于无限远修正的显微镜镜头架构；
衍射反射的光学光路设计；
带保护功能的温度和气流传感器；
全景准直透镜光线偏差半角：<1.84度；
设备稳定性，耐用性；
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