MYCRO提供美国原装的单晶圆片和掩膜的清洗设备，均匀度高和国际水平的兆声清洗解决方案。提供单晶片或者单片掩膜板的清洗，它通过控制声波能量密度来对衬底表面进行坏的清洗。表面颗粒的去除可以调整化学试剂的配方成分，使得衬底表面存在少量的颗粒。化学配比系统设计了小的化学试剂的消耗，它提供了程序化的混合方式使化学试剂在衬底表面均匀的分布。这个设计也提供了的化学工艺时间的控制，控制声波去离子水的流量，然后衬底在热氮氛围里旋干。
根据用户的应用需要，某些特定选项将有助于设备去除不想要的颗粒和杂质。
具体应用
清洗功能：
？晶圆片
？蓝宝石外延片
？晶圆框架上的芯片
？显示面板
？ITO膜显示材料
？有图形掩膜和无图形掩膜
？掩膜坯料
？薄膜式掩膜
？接触式掩膜
光刻处理工艺：
？SPM剥离
？光刻胶涂膜
？光刻胶剥离工艺
刻蚀：
？金属刻蚀（铝，铜，铬，钛）
白骨化清洗：
？在晶圆片上和双氧水的混合液
？红外加热
？刷洗
？兆声双氧水清洗
？热氮和甩干 产品特点：
？针对21英寸外径或15x15英寸的基底
？声环境清洗舱（可配备去离子水，清洗刷，热去离子水，高压去离子水，热氮气）
？化学臂
？带化学的可变速清洗刷
？触屏用户界面
？手动上
？锁和报警器
？占地尺寸30"D x 26"W
可选配项：
？化学试剂传送单元
？白骨化清洗
？臭氧发生器
？氢化双氧水发生器
？高压双氧单元
？氢过氧化物
？红外加热
？双氧水循环装置
？机械手上单元
？带EFEM和SMIF界面的集群系统
根据用户的应用需要，某些特定选项将有助于设备去除不想要的颗粒和杂质。
具体应用
清洗功能：
？晶圆片
？蓝宝石外延片
？晶圆框架上的芯片
？显示面板
？ITO膜显示材料
？有图形掩膜和无图形掩膜
？掩膜坯料
？薄膜式掩膜
？接触式掩膜
光刻处理工艺：
？SPM剥离
？光刻胶涂膜
？光刻胶剥离工艺
刻蚀：
？金属刻蚀（铝，铜，铬，钛）
白骨化清洗：
？在晶圆片上和双氧水的混合液
？红外加热
？刷洗
？兆声双氧水清洗
？热氮和甩干 产品特点：
？针对21英寸外径或15x15英寸的基底
？声环境清洗舱（可配备去离子水，清洗刷，热去离子水，高压去离子水，热氮气）
？化学臂
？带化学的可变速清洗刷
？触屏用户界面
？手动上
？锁和报警器
？占地尺寸30"D x 26"W
可选配项：
？化学试剂传送单元
？白骨化清洗
？臭氧发生器
？氢化双氧水发生器
？高压双氧单元
？氢过氧化物
？红外加热
？双氧水循环装置
？机械手上单元
？带EFEM和SMIF界面的集群系统
