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手动光刻机 曝光机 光刻机 半导体 mems

产品价格:
电议
产品型号:
手动光刻机
供应商等级:
企业未认证
经营模式:
工厂
企业名称:
新耕(上海)贸易有限公司
所属地区:
上海市
发布时间:
2013/8/20 10:17:38

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盛先生先生(联系我时,请说明是在维库仪器仪表网看到的,谢谢)

企业档案

新耕(上海)贸易有限公司

企业未认证营业执照未上传

经营模式:工厂

所在地:上海市

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  • 品牌/商标:mikasa
  • 企业类型:制造商
  • 新旧程度:全新
  • 原产地:日本

手动光刻机,便宜,性能好。
产地;日本
可根据客户具体要求,定制。
适合研发类用户

曝光类型:单面
◆曝光面积:≥φ115mm
◆曝光不均匀性:≤±3%
◆曝光强度:≥20mw/cm2
◆曝光分辨率:1μm
◆曝光模式:可选择曝光或套刻曝光模式
◆扫描范围:X:±40mm   Y:±35mm
◆对准范围:X、Y粗调±3mm、细调±0.3mm Q粗调±15°、细调±3°
◆对准:1μm
◆分离量:0~50μm可调
◆接触-分离漂移:≤1μm
◆密着曝光方式:密着曝光可实现硬接触、 软接触和微力接触曝光;
◆找平机构:三点式自动找平;
◆显微系统:双视场CCD系统,显微镜45X~ 300X连续变倍(物镜1.125X~7.5X),双 物镜距离可调范围:11mm~100 mm,计算机图像处理系统,19″液晶监视器;
◆掩模版尺寸:2.5″×2.5″(或3″×3″) 4″×4″、5″×5″
◆基片尺寸:φ2″、φ3″、φ4″
◆基片厚度:≤5 mm
◆曝光灯功率:直流350W
◆曝光定时:0~999.9秒可调
◆对准方式:切斯曼对准机构
◆曝光头转位:气动
◆电源:单相AC220V 50Hz 功耗≤1kW
◆洁净空气压力:≥0.4Mpa
◆真空度:-0.07MPa~-0.09Mpa
◆尺寸: 920×680×1600(L×W×H)mm;
◆重量:~170kg

联系方式

新耕(上海)贸易有限公司

联系人:
盛先生先生
手机:
18616823896
所在地:
上海市
类型:
工厂
地址:
上海市浦东新区东方路800号宝安大厦800号1301

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QQ:196325136 
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