等离子体刻蚀机用于反应离子蚀刻氧化物,氮化物。可针对4",5"或6"晶圆。
设备描述:
1、真空系统:爱德华干泵+I冷凝泵+LEYBOLD分子泵
2、真空检测:TC guage+ION gauge+MKS薄膜压力规
3、过程检测:激光薄膜厚度检测
4、工作气体:5路工作气体+环行布气系统
5、工件尺寸:4寸-6寸,可改进到更大尺寸。如4寸,可装载24片
6、工作电源:射频功率源+匹配箱
7、控制系统:全自动工艺流程,高集成控制系统
8、保护:考虑因素,人性话设计。
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