设备配置如下:
序号 项目 基本型 LOADLOCK型
1 镀膜室尺寸 ∮500 ∮500
2 真空室数量 1 2
3 镀膜方向 上垂直安装阴,向下溅射 上垂直安装阴,向下溅射
4 阴尺寸 ∮50、∮100、∮160 ∮50、∮100、∮160
5 阴数量 2-6个 2-6个
6 真空系统 粗抽+分子泵组 粗抽+分子泵组
7 工艺气体路数 4路 4路
8 压力检测 MKS 1Torr MKS 0.5Torr
9 限真空度 8*10-5Pa 8*10-5Pa
10 镀膜电源 直流、中频、射频 直流、中频、射频
11 加热温度 350度 350度
12 膜层数量 单层-多层 单层-多层
13 膜层种类 金属膜、反应膜、缘膜 金属膜、反应膜、缘膜
14 样片尺寸 8寸 8寸
15 样片数量 单片为主 单片为主
16 溅射不均匀性 ≤±5% ≤±3%
17 控制系统 PC+PLC PC+PLC
18 控制方式 自动+手动 自动+手动