特点：
1、采用的磁路设计，传统模式，更合磁控溅射的理念。
2、采用的结构设计，冷却充分，可满足大功率、大电流使用要求。
3、更高的溅射率，离子密度更强。
4、更高的利用率，70以上。
5、尺寸范围：靶材外尺寸70、100、150、250，保持一致的均匀性
6、使用范围：如TI、AL、NI、CR、AZO、ITO等。
使用领域：装饰镀、工具镀、ITO、光伏、LOE-E玻璃等。
1、采用的磁路设计，传统模式，更合磁控溅射的理念。
2、采用的结构设计，冷却充分，可满足大功率、大电流使用要求。
3、更高的溅射率，离子密度更强。
4、更高的利用率，70以上。
5、尺寸范围：靶材外尺寸70、100、150、250，保持一致的均匀性
6、使用范围：如TI、AL、NI、CR、AZO、ITO等。
使用领域：装饰镀、工具镀、ITO、光伏、LOE-E玻璃等。
