氮化硼实验室可工业化高速均质机

氮化硼实验室可工业化高速均质机，氮化硼工业化超细研磨分散机，氮化硼超细研磨分散设备，氮化硼乙醇共混法超细研磨分散机

依肯(IKN)研磨分散机设计独特，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。

氮化硼由于其特性与石墨相似而质地洁白，俗称白石墨，有六方与立方两种晶型，但通常呈六方结构。在高温与超高压的特殊条件下，可将六方结构晶型转化为立方晶型。氮化硼由于机械强度高，在高温下无负载软化现象，可作机械加工车削。氮化硼使用范围广泛，其粉末可作优良的润滑剂与脱模剂，合成工程陶瓷材料后可用作熔炼蒸发金属的坩埚、舟皿、液态金属输送管、战斗机、火箭起飞喷口，大功率器件底座，半导体元件掺杂源，以及各种高温、高压或高频的绝缘散热部件。而立方氮化硼则为近似于金刚石的超硬材料。

上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。

CMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。第y级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体滞流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000研磨分散机为立式分体结构，有一定输送能力，可以处理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。

从设备角度来分析，影响分散效果因素有以下几点：

1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，研磨分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

氮化硼工业化超细研磨分散机，氮化硼超细研磨分散设备，氮化硼实验室可工业化高速均质机，氮化硼乙醇共混法超细研磨分散机