TSV1200-S型多功能磁控溅射镀膜机
应用范围：手机外壳，MP3外壳，数码相机外壳，各种标牌的装饰改性加硬镀膜。可镀膜层：氮化钛（TiN），氮碳化钛（TiCN），氮化锆（ZrN），氮化铬（CrN），氮化铝钛（TiAlN），碳化钛（TiC）等。颜色：金色，银色，黑色兰色等等。
主要特点：
1，侧面双开门结构，便于装片和换靶
2，设计预溅射挡板，工艺控制简便，节省时间
3，设计的充气和抽气系统，镀膜区宽
4，脉冲偏压非平衡对靶中频磁控溅射技术，镀膜质量稳定
5，采用PLC工控机控制，可实现设备和工艺手动和自动控制，多重泵阀水电互锁互保护
6，安装采用四质谱监控和氦质谱检漏，真空密封性好，设备工艺稳定
7，转动采用磁流体引入，长期运转密封
8，综合效率高，装片量大。50X70mm工件，可装800片
9，部件采用国内，电器元件采用或合资企业产品，设备长期运行稳定。
主要技术参数和配置：
（一），真空系统技术指标
1，限真空：2×10-a；
2，抽速：大气到5×10-a≤30mm（空载，冷态，洁净）；
3，压升率：小于0.5Pa／hr。
（二），真空室和真空系统配置
1，镀膜室尺寸：1210mm（直径）×1200mm（高）；
2，采用侧面对开双门方式，便于工件装卸；
3，外壁通冷却水，冷却水管采用半圆管焊接方式，焊缝美观，平整；
4，3个观察窗口，左右门上各一个，室体正前方一个；
5，抽气室内安装一个旋转抽气挡板，旋转角度范围0～90°
6，两台φ400mm口径分子泵；
7，1台ZJP300型罗茨泵，增加气动旁通阀；
8，2台2X-70型机械泵，一台为粗抽泵，一台为分子泵维持泵；
9，φ400mm口径高真空气动阀2套；
（三），工件挂架以及驱动装置
1，一套公，自转工转机构，采用下驱动方式的二维平面行星机构，自转轴20根；
2，转速0-8圈／分钟可控可调；
3，驱动引入采用磁流体密封；
（四），真空测量系统
1，采用一台数字式复合真空计；
2，一路高真空测量，两路低真空测量（室体一路，低真空管道一路）。
（五），磁控溅射阴靶
1，四对磁控溅射靶（四只外装靶，四只内装靶，共八只靶）
2，磁控溅射靶靶材尺寸：912mm×120mm（长×宽）；
（六），加热系统
1，6只加热器，沿室壁圆周分布，每只功率3KW，加热总功率18KW；
2，金属铠装热电偶一只，安装于室体顶部；
3，烘烤温度300℃，能实现温度自动控制；
4，加热器引入采用金属密封。
（七），水冷却系统
1、真空室冷却
2、八个靶体冷却
3、分子泵，罗茨泵冷却
4、冷却水测温，并报警
（八），供气系统
1、4路进气（Ar，N2，O2，C2H2），1个混气罐；
2、4只AE质量流量计，4只电磁截止阀，4只手动针阀；
3、气路管道采用外径1／4″不锈钢管，配均匀布气管。
（九），预溅射挡板
1，挡板边缘折边，增加强度，避免烘烤热变形；
2，驱动引入密封采用磁流体密封。
（十），溅射及偏压供电系统：
1、3套30K溅射电源：
2、一套PLS-30K型脉冲偏压电源
（十一），控制单元
1、控制系统：采用机（工控机）＋下位机（PLC）的控制形式，工控机向PLC发送命令，PLC去控制真空系统，加热系统，转动系统。
2、真空控制有手动和自动，自动包括四个过程：真空，连续，取件，停机。
3、靶控制也有手动和自动，自动主要以时间和功率来控制能保存和调用工艺参数。
4、报警系统有泵，靶断水报警，系统气压低报警等，全系统具有爆，互保护，泵阀互锁
（十二）设备动力要求
水源：工业软水，水压0.2～0.3Mpa，水量～50L／min，进水温度≤25℃；
气源：气压0.6MPa；
电源：三相五线制380V，50Hz，波动范围±5％：功率≥60KW，150KW
（十三）占地面积：3200长X4200宽X2100高
应用范围：手机外壳，MP3外壳，数码相机外壳，各种标牌的装饰改性加硬镀膜。可镀膜层：氮化钛（TiN），氮碳化钛（TiCN），氮化锆（ZrN），氮化铬（CrN），氮化铝钛（TiAlN），碳化钛（TiC）等。颜色：金色，银色，黑色兰色等等。
主要特点：
1，侧面双开门结构，便于装片和换靶
2，设计预溅射挡板，工艺控制简便，节省时间
3，设计的充气和抽气系统，镀膜区宽
4，脉冲偏压非平衡对靶中频磁控溅射技术，镀膜质量稳定
5，采用PLC工控机控制，可实现设备和工艺手动和自动控制，多重泵阀水电互锁互保护
6，安装采用四质谱监控和氦质谱检漏，真空密封性好，设备工艺稳定
7，转动采用磁流体引入，长期运转密封
8，综合效率高，装片量大。50X70mm工件，可装800片
9，部件采用国内，电器元件采用或合资企业产品，设备长期运行稳定。
主要技术参数和配置：
（一），真空系统技术指标
1，限真空：2×10-a；
2，抽速：大气到5×10-a≤30mm（空载，冷态，洁净）；
3，压升率：小于0.5Pa／hr。
（二），真空室和真空系统配置
1，镀膜室尺寸：1210mm（直径）×1200mm（高）；
2，采用侧面对开双门方式，便于工件装卸；
3，外壁通冷却水，冷却水管采用半圆管焊接方式，焊缝美观，平整；
4，3个观察窗口，左右门上各一个，室体正前方一个；
5，抽气室内安装一个旋转抽气挡板，旋转角度范围0～90°
6，两台φ400mm口径分子泵；
7，1台ZJP300型罗茨泵，增加气动旁通阀；
8，2台2X-70型机械泵，一台为粗抽泵，一台为分子泵维持泵；
9，φ400mm口径高真空气动阀2套；
（三），工件挂架以及驱动装置
1，一套公，自转工转机构，采用下驱动方式的二维平面行星机构，自转轴20根；
2，转速0-8圈／分钟可控可调；
3，驱动引入采用磁流体密封；
（四），真空测量系统
1，采用一台数字式复合真空计；
2，一路高真空测量，两路低真空测量（室体一路，低真空管道一路）。
（五），磁控溅射阴靶
1，四对磁控溅射靶（四只外装靶，四只内装靶，共八只靶）
2，磁控溅射靶靶材尺寸：912mm×120mm（长×宽）；
（六），加热系统
1，6只加热器，沿室壁圆周分布，每只功率3KW，加热总功率18KW；
2，金属铠装热电偶一只，安装于室体顶部；
3，烘烤温度300℃，能实现温度自动控制；
4，加热器引入采用金属密封。
（七），水冷却系统
1、真空室冷却
2、八个靶体冷却
3、分子泵，罗茨泵冷却
4、冷却水测温，并报警
（八），供气系统
1、4路进气（Ar，N2，O2，C2H2），1个混气罐；
2、4只AE质量流量计，4只电磁截止阀，4只手动针阀；
3、气路管道采用外径1／4″不锈钢管，配均匀布气管。
（九），预溅射挡板
1，挡板边缘折边，增加强度，避免烘烤热变形；
2，驱动引入密封采用磁流体密封。
（十），溅射及偏压供电系统：
1、3套30K溅射电源：
2、一套PLS-30K型脉冲偏压电源
（十一），控制单元
1、控制系统：采用机（工控机）＋下位机（PLC）的控制形式，工控机向PLC发送命令，PLC去控制真空系统，加热系统，转动系统。
2、真空控制有手动和自动，自动包括四个过程：真空，连续，取件，停机。
3、靶控制也有手动和自动，自动主要以时间和功率来控制能保存和调用工艺参数。
4、报警系统有泵，靶断水报警，系统气压低报警等，全系统具有爆，互保护，泵阀互锁
（十二）设备动力要求
水源：工业软水，水压0.2～0.3Mpa，水量～50L／min，进水温度≤25℃；
气源：气压0.6MPa；
电源：三相五线制380V，50Hz，波动范围±5％：功率≥60KW，150KW
（十三）占地面积：3200长X4200宽X2100高
