TSV1300型精密光学真空镀膜机
我公司生产的自动光学真空镀膜机具有石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式，通过PLC和工控机联合实现对整个镀膜过程的自动控制，包括真空系统，烘烤系统，蒸发过程和膜层厚度的监控功能，可实现无人值守的自动控制，从而了工作效率和产品质量的一致性和稳定性。
应用范围：
该设备采用e型电子蒸发源，可蒸发各种高熔点金属和氧化物，可在玻璃，塑料，陶瓷基体上镀制各种多层薄膜，如：红外膜，宽带增透膜，分光膜，冷光膜，IR-CUT膜，干涉截止滤光片，偏振膜，电学膜，适用于眼镜，光学镜头，精密光学元件，激光和电子行业的大规模工业生产。
主要特点：
1电子输出功率稳定，结构设计二次电子的产生和电子打火。
2转动采用磁流体引入，长期运转密封。
3工件转动座多重水冷和重力导向设计，运转平稳，径向和轴向跳动3-5mm.
4采用PLC＋触摸屏控制，多重泵阀水电互锁互保护，可自动控制，包括真空系统，烘烤系统，整个蒸发镀膜过程。
5安装采用四质谱监控和氦质谱检漏，真空密封性好，设备工艺稳定。
6部件采用国内，电器元件采用或合资企业产品，设备24小时连续长期运行稳定。
基本参数：
1.立式前开门结构，不锈钢真空室Φ1300X1500mm
2.限真空：1×10-4Pa（空载清洁真空系统，300°烘烤后）
3.恢复真空时间：大气至4×10-a≤15min.
4.大抽速主泵，KT-630型扩散泵（18000L/s）两台，配备湍流装置。
5.工件转动：采用磁流体密封转动装置，转动座多重水冷和重力导向设计，运转平稳。
6.工件烘烤：桶状上烘烤，三点控温，烘烤温度350°。
7.永磁E型电子，功率10KW/支；可配置单或双，多穴坩埚和环形坩埚。
8.配备美国Inficon公司生产的SQC310C 或IC6型石英晶体膜厚控制仪。
9.10英寸触摸屏和欧姆龙（PLC）编程控制器，对设备真空系统、蒸发源系统、烘烤系统、工件转动系统、膜厚监控系统等进行监测和控制，可采用自动和手动两种模式。
10.可选配Φ16CM的离子源或深冷低温冷阱。
我公司生产的自动光学真空镀膜机具有石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式，通过PLC和工控机联合实现对整个镀膜过程的自动控制，包括真空系统，烘烤系统，蒸发过程和膜层厚度的监控功能，可实现无人值守的自动控制，从而了工作效率和产品质量的一致性和稳定性。
应用范围：
该设备采用e型电子蒸发源，可蒸发各种高熔点金属和氧化物，可在玻璃，塑料，陶瓷基体上镀制各种多层薄膜，如：红外膜，宽带增透膜，分光膜，冷光膜，IR-CUT膜，干涉截止滤光片，偏振膜，电学膜，适用于眼镜，光学镜头，精密光学元件，激光和电子行业的大规模工业生产。
主要特点：
1电子输出功率稳定，结构设计二次电子的产生和电子打火。
2转动采用磁流体引入，长期运转密封。
3工件转动座多重水冷和重力导向设计，运转平稳，径向和轴向跳动3-5mm.
4采用PLC＋触摸屏控制，多重泵阀水电互锁互保护，可自动控制，包括真空系统，烘烤系统，整个蒸发镀膜过程。
5安装采用四质谱监控和氦质谱检漏，真空密封性好，设备工艺稳定。
6部件采用国内，电器元件采用或合资企业产品，设备24小时连续长期运行稳定。
基本参数：
1.立式前开门结构，不锈钢真空室Φ1300X1500mm
2.限真空：1×10-4Pa（空载清洁真空系统，300°烘烤后）
3.恢复真空时间：大气至4×10-a≤15min.
4.大抽速主泵，KT-630型扩散泵（18000L/s）两台，配备湍流装置。
5.工件转动：采用磁流体密封转动装置，转动座多重水冷和重力导向设计，运转平稳。
6.工件烘烤：桶状上烘烤，三点控温，烘烤温度350°。
7.永磁E型电子，功率10KW/支；可配置单或双，多穴坩埚和环形坩埚。
8.配备美国Inficon公司生产的SQC310C 或IC6型石英晶体膜厚控制仪。
9.10英寸触摸屏和欧姆龙（PLC）编程控制器，对设备真空系统、蒸发源系统、烘烤系统、工件转动系统、膜厚监控系统等进行监测和控制，可采用自动和手动两种模式。
10.可选配Φ16CM的离子源或深冷低温冷阱。
