NA MASTER(那诺-马斯特)的等离子灰化和清洗系统可用于单晶圆处理或批处理，清洗、刻蚀、改性、去胶等各种功能。各向同性PE和各向异性RIE两种刻蚀并存，并可编程实现自动切换，型号包含NPC-3000，NPC-4000。
等离子清洗及去胶系统
NA-MASTER(那诺-马斯特)等离子灰化和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。
产品特点：
台式或系统
不锈钢、铝制腔体或钟罩式耐热玻璃腔
兼容100级净间使用
淋浴头、ICP或微波等离子源
旋转样品台
RF偏压可PID控制加热到300 °C或冷却的样品台
全自动或手动RF调谐
多可支持4个MFC带电抛光的气体管路
PC计算机控制的气动阀
带保护的多级访问控制
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
机械泵的压力可10mTorr
250 l/s的涡轮分子泵
限真空为5x10-7Torr
完整的联锁
产品应用：
物以及无机物的残留物去除
光刻胶剥离或灰化
去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用
清洗微电子元件，电路板上的钻孔或铜线框架
黏附性，消除键合问题
塑料的表面改型：O2处理以改进涂覆性能
产生亲水或疏水表面
