NA MASTER(那诺-马斯特)的兆声处理设备，主要包含SWC单晶圆/掩模版清洗系列和LSC大基片清洗系列，支持湿法清洗/去胶/刻蚀应用。型号包含SWC-3000，SWC-4000，SWC-5000，LSC-4000，LSC-5000。
清洗及工艺技术
NA-MASTER(那诺-马斯特)兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
为了实现基片情况下的程度的清洗优化，兆声能量强度须稍稍低于样片上的任何点的受损阈值。NA-MASTER(那诺-马斯特)的技术可以兆声能量均匀分布于整个基片表面，可以做到分布能量化的同时又稍低于样片受损阈值，从而实现理想的清洗效果。
根据不同的应用，某些选配件将会进一步设备的能力，更好的去除不想要的颗粒和残留物的效果。
NA-MASTER(那诺-马斯特)兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
为了实现基片情况下的程度的清洗优化，兆声能量强度须稍稍低于样片上的任何点的受损阈值。NA-MASTER(那诺-马斯特)的技术可以兆声能量均匀分布于整个基片表面，可以做到分布能量化的同时又稍低于样片受损阈值，从而实现理想的清洗效果。
根据不同的应用，某些选配件将会进一步设备的能力，更好的去处不想要的颗粒和残留物的效果。
单晶圆/掩模版清洗机型号 SWC-4000 和 SWC-3000
应用：
有图案和无图案掩模版及晶圆片
Ge, GaAs和InP晶圆片清洗
CMP化学机械抛光后晶圆片清洗
晶圆片框架上的切片小芯片清洗
等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
带保护膜的分划板清洗
掩模版空白处或接触掩模版清洗
X射线及紫外掩模版清洗
光学镜头清洗
带ITO涂层的显示面板清洗
兆声辅助的玻璃工艺
SWC-4000产品主要特点：
12”外径或7”x7”基片
的系统单元
兆声，化学试剂，刷子清洗和旋转甩干
微处理器控制
化学试剂分发单元
溶剂和酸分开排放
热氮
30”深 x 26”宽的占地面积
SWC-4000选配项：
掩模版或晶圆片托盘
臭氧清洗
刷子清洗
高压去离子水清洗
氮离子发生器
SWC-3000产品主要特点：
台式单元
兆声掩模版或晶圆片清洗
12”圆片，9”方片
微处理器控制
IR红外灯
SWC-3000选配项：
掩模版或晶圆片托盘
刷子清洗
化学试剂清洗(CDU)
氮离子发生器
大基片清洗机型号LSC-4000
LSC-4000应用：
硅片
蓝宝石片
晶圆框架上的芯片
显示面板
ITO涂敷的显示屏
有图案及无图案掩模版
掩模版空白处
带保护膜的分划板
接触掩模版
LSC-4000产品主要特点：
21”外径，15”x15”基片
450mm晶圆片
带兆声的大环境腔体
DI，刷子，热N2
化学试剂滴胶臂
带化学试剂滴胶的不同转速的刷子
PC控制的系统，带Labview软件
触摸板用户界面
手动放片取片
联锁及报警
30”D x 26”W占地面积
LSC-4000选配项：
化学试剂输送模块
Piranha溶液清洗
臭氧化去离子水(20ppm的O3)
氢化的去离子水
高压去离子水
加热的去离子水
溶剂和酸分开排放
红外加热
去离子水循环器
耐火立柜
带EFM以及SMIF界面的机械手载片/取片
