NA MASTER(那诺-马斯特)提供的ALD系统可沉积陷的薄膜，是高介电常数材料的理想选择，主要型号包含NLD-3500，NLD-4000。此外，我们可以提供的等离子增强ALD的产线解决方案。
原子层沉积系统
原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供卓越的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
NA-MASTER(那诺-马斯特)NLD-4000是一款的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统，带Labview软件，具备四级控制的用户授权保护功能。系统为全自动的互锁设计，并提供了强大的灵，可以用于沉积多种薄膜（如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等）。应用领域包含半导体、光伏、MEMS等。NLD-4000系统提供12”的铝质反应腔体，带有加热腔壁和气动升降顶盖，方便腔体的访问和清洁。该系统拥有一个载气舱包含多达7个50ml的加热汽缸，用于前驱体以及反应物，同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀。
NLD-4000系统的选配项包含自动L/UL上(用于6”基片)，ICP离子源(用于等离子增强的PEALD)，臭氧发生器，等等。
NLD-4000在6”晶圆片上的均匀性数据：
周期：100个周期(TMA + H2O)
均匀度：0.36%
温度：200°C
折射率：1.68
周期：300个周期（TMA + H2O）
均匀度：0.27%
温度：200°C
折射率：1.67
