ETD系列离子溅射仪是依据二（DC）直流溅射原理设计而成的，简单、、经济的镀膜设备。不但满足扫描电镜制备薄膜需要，而且也可作为实验设备，溅射较厚的导电膜层用于其他实验。
ETD系列离子溅射仪，可选择普通溅射电，也可选择磁控溅射电，有1600V和3000V电离电压可选。
基本指标
靶（上部电）：Au/Pt：直径：50mm，厚度：0.12mm
真空样品室：直径：160mm，高：120mm
样品台及工作距离：旋转样品台，简配固定样品台，高度手动调节
溅射面积：Ф50mm，放置
真空指示表：真空度：≤4X10-2 mbar
离子电流表：电流：50mA/100mA
定时器：长时间：900S
真空度手动控制：微型真空气阀，可连接φ3mm软管
可通入气体：多种
机械泵：2L/S （120L/min）
ETD系列离子溅射仪，可选择普通溅射电，也可选择磁控溅射电，有1600V和3000V电离电压可选。
基本指标
靶（上部电）：Au/Pt：直径：50mm，厚度：0.12mm
真空样品室：直径：160mm，高：120mm
样品台及工作距离：旋转样品台，简配固定样品台，高度手动调节
溅射面积：Ф50mm，放置
真空指示表：真空度：≤4X10-2 mbar
离子电流表：电流：50mA/100mA
定时器：长时间：900S
真空度手动控制：微型真空气阀，可连接φ3mm软管
可通入气体：多种
机械泵：2L/S （120L/min）
