试验/实验用微波真空高温管式炉
CMS系列真空高温管式炉专门设计用于高温工艺，如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等等。窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温，优质微波源加热，优质刚玉管炉膛，系统可预抽真空，气体采用浮子流量计控制。单回路智能温度控制仪控制，设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备一、技术指标：
设备型号 NT-CVD（G）-08/50/1
温区温度 1650℃；（长恒温时间：≥10小时）；
加热容积 Φ72（内经）×500mm；恒温区尺寸：Φ72（内经）×250mm
炉管实际尺寸 Φ80（外径）×1400mm（国产优质刚玉管）
炉膛材料 氧化铝纤维制品
控制温区点数 1个，1支B分度热偶
设备温场温差 ±1℃，
加热元件 优质微波源
加热功率 4Kw
保温功率 1kw
升温速率 10℃∽120℃/min；
降温速率 3℃∽7℃/min
温度均匀性 ±3℃（范围：Φ72×250mm）
气路配件材料 气路配件材料，端头不锈钢发兰密封，一路气体采用浮子流量计控制，管道和阀门采用不锈钢元件
限真空 ≤10Pa（常温），机械泵（配电磁阀）。
压升率 ≤5Pa/h
试验/实验用微波真空高温管式炉
CMS系列真空高温管式炉专门设计用于高温工艺，如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等等。窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温，优质微波源加热，优质刚玉管炉膛，系统可预抽真空，气体采用浮子流量计控制。单回路智能温度控制仪控制，设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备一、技术指标：
设备型号 NT-CVD（G）-08/50/1
温区温度 1650℃；（长恒温时间：≥10小时）；
加热容积 Φ72（内经）×500mm；恒温区尺寸：Φ72（内经）×250mm
炉管实际尺寸 Φ80（外径）×1400mm（国产优质刚玉管）
炉膛材料 氧化铝纤维制品
控制温区点数 1个，1支B分度热偶
设备温场温差 ±1℃，
加热元件 优质微波源
加热功率 4Kw
保温功率 1kw
升温速率 10℃∽120℃/min；
降温速率 3℃∽7℃/min
温度均匀性 ±3℃（范围：Φ72×250mm）
气路配件材料 气路配件材料，端头不锈钢发兰密封，一路气体采用浮子流量计控制，管道和阀门采用不锈钢元件
限真空 ≤10Pa（常温），机械泵（配电磁阀）。
压升率 ≤5Pa/h
试验/实验用微波真空高温管式炉