尺寸:1100 x 1250 x 1550 mm
重量:400kg
类型:自动的
测量方法:无连接的
测量原理:反射计
特征:测量，操作简单
非接触式，非破坏方式
的重复性和再现性
2D／3D 映射和造型
自动机械活动控制
电荷耦合器件照相机
自动调焦
活动范围:300mm x 300mm
测量范围:100Å～ 35㎛（Depends on Film Te）
光斑尺寸:40㎛／20㎛，4㎛（option）
测量速度:1～2 sec。／site（fitting time）
应用领域:All Capability of ST2000 ＆ More Precision Measurement
Intended for Large Size Wafer Measurement
选择:Tranittance Module
Reference Sample（K-MAC or KRISS or NIST）
接物镜旋转器:Quintuple Revolving Nosepiecs
焦点:Coaxial Coarse and Fine Focus Controls
附带照明:12v 100W Halogen Lamp
重量:400kg
类型:自动的
测量方法:无连接的
测量原理:反射计
特征:测量，操作简单
非接触式，非破坏方式
的重复性和再现性
2D／3D 映射和造型
自动机械活动控制
电荷耦合器件照相机
自动调焦
活动范围:300mm x 300mm
测量范围:100Å～ 35㎛（Depends on Film Te）
光斑尺寸:40㎛／20㎛，4㎛（option）
测量速度:1～2 sec。／site（fitting time）
应用领域:All Capability of ST2000 ＆ More Precision Measurement
Intended for Large Size Wafer Measurement
选择:Tranittance Module
Reference Sample（K-MAC or KRISS or NIST）
接物镜旋转器:Quintuple Revolving Nosepiecs
焦点:Coaxial Coarse and Fine Focus Controls
附带照明:12v 100W Halogen Lamp
