研究及小规模生产型：
微波功率：2.45GHz，6KW, 脉冲模式可选 (沉积速度和质量)；
样品台：直径75-100mm,旋转衬底可选（大面积均匀性）;
真空系统：oil pump/dry pump，TMP可选（营造高真空基准）；
控制方式：半自动或全自动(操作灵活)；
生长速率：30μm/h.
整体特点：专门生长大面积热沉级、光学级多晶薄膜配置，适合于研发、小规模生产。
大面积光学级金刚石厚膜生产研究型：
微波功率：915MHz，30KW；
水冷衬底：直径250mm或更大; 衬底加热和衬底旋转可选.
4个4英寸衬底, 加热和旋转衬底可选
真空系统：oil pump / dry pump+TMP（营造高真空基准）；
控制系统：全自动控制（适合大批量生产）；
生长速率：30μm/h, 或更率
整体特点：专门大面积金刚石薄膜研究及生产配置；可获得4-10英寸光学级金刚石厚膜，也可以用于研究合成曲面自支撑金刚石厚膜，请详细咨询！
