仪器简介：
Helios NanoLab是目前强大的场发射扫描(FESEM)+聚焦离子束(FIB)"双束"显微镜系统, 是FESEM/FIB 应用的前沿工具:
- 无与伦比的成像性能
- 二维和三维 纳米分析
- 纳米原型设计
- 的样本制备性能
技术参数：
1.分辨率
在适佳工作距离下：
0.9nm @ 15kV
1.4nm @ 1kV
在束交点(电子束+离子束)的工作距离下：
1.0nm @ 15kV, 束交点工作距离 4mm
5nm FIB @ 30kV，束交点工作距离 16.5mm
2.加速电压范围：
SEM: 30kV 至 350V
FIB: 30kV 至 500V
3.探测器：
新一代TLD二次电子/背散射电子探测器
样品室红外CCD
可选CDEM离子探测器、STEM、固体背散射探测器等
4.气体注入系统（GIS）：
Pt沉积气体
W沉积气体
C沉积气体
金属增强蚀刻气体
氧化物增强蚀刻气体
(FEI目前可提供多达11种气体)
5.150mm(6")压电陶瓷马达驱动的全对中样品台
主要特点：
1. Schottky FESEM次达到亚纳米分辨率
2. FIB出色的分辨率以及范围的束流和加速电压
3. 出色的成像质量和系统稳定性
4. 新集成的电子和离子束16 位数字图案生成器
5. 薄的样品制备，非常低的样品损伤、高速度、并且操作轻松
6. 二维和三维的纳米表征和纳米原型制作达到了新的极限
Helios NanoLab是目前强大的场发射扫描(FESEM)+聚焦离子束(FIB)"双束"显微镜系统, 是FESEM/FIB 应用的前沿工具:
- 无与伦比的成像性能
- 二维和三维 纳米分析
- 纳米原型设计
- 的样本制备性能
技术参数：
1.分辨率
在适佳工作距离下：
0.9nm @ 15kV
1.4nm @ 1kV
在束交点(电子束+离子束)的工作距离下：
1.0nm @ 15kV, 束交点工作距离 4mm
5nm FIB @ 30kV，束交点工作距离 16.5mm
2.加速电压范围：
SEM: 30kV 至 350V
FIB: 30kV 至 500V
3.探测器：
新一代TLD二次电子/背散射电子探测器
样品室红外CCD
可选CDEM离子探测器、STEM、固体背散射探测器等
4.气体注入系统（GIS）：
Pt沉积气体
W沉积气体
C沉积气体
金属增强蚀刻气体
氧化物增强蚀刻气体
(FEI目前可提供多达11种气体)
5.150mm(6")压电陶瓷马达驱动的全对中样品台
主要特点：
1. Schottky FESEM次达到亚纳米分辨率
2. FIB出色的分辨率以及范围的束流和加速电压
3. 出色的成像质量和系统稳定性
4. 新集成的电子和离子束16 位数字图案生成器
5. 薄的样品制备，非常低的样品损伤、高速度、并且操作轻松
6. 二维和三维的纳米表征和纳米原型制作达到了新的极限
