惠州市乾野电子有限公司(简称FNK-TECH) 成立于2003 年,从事各种大功率半导体器件与功率集成器件设计、生产和销售,是中国大功率半导体器件的领航设计与销售企业。
FNK4481 P沟道增强模式功率MOSFET的说明
FNK4481uses先进的沟槽技术,提供出色的RDS,低栅极电荷和操作与栅极电压低至4.5V.
一般特征
●I=-30A
●R <40MΩ@ VGS=-4.5V
●R <23mΩ@ VGS=-10V
高功率和电流移交能力
无铅产品
应用
●电池开关
●负荷开关
●电源管理
乾野电子在目前(20V-250V)大功率Trench-MOS 器件、(500V-650V)SJ-MOS器件、普通高压MOS器件(600V)已量产与销售, 并取得国内和国际的多项技术。 FNK4481 P沟道增强模式功率MOSFET的说明 FNK4481uses先进的沟槽技术,提供出色的RDS,低栅极电荷和操作与栅极电压低至4.5V. 一般特征 ●I=-30A ●R <40MΩ@ VGS=-4.5V ●R <23mΩ@ VGS=-10V 高功率和电流移交能力 无铅产品 应用 ●电池开关 ●负荷开关 ●电源管理 场效应管的工作原理 场效应管工作原理用一句话说,就是"漏极-源极间流经沟道的ID,用以栅极与沟道间的pn结形成的反偏的栅极电压控制ID".更正确地说,ID流经通路的宽度,即沟道截面积,它是由pn结反偏的变化,产生耗尽层扩展变化控制的缘故。在VGS=0的非饱和区域,表示的过渡层的扩展因为不很大,根据漏极-源极间所加VDS的电场,源极区域的某些电子被漏极拉去,即从漏极向源极有电流ID流动。从门极向漏极扩展的过度层将沟道的一部分构成堵塞型,ID饱和。将这种状态称为夹断。这意味着过渡层将沟道的一部分阻挡,并不是电流被切...
乾野电子在目前(20V-250V)大功率Trench-MOS 器件、(500V-650V)SJ-MOS器件、普通高压MOS器件(600V)已量产与销售, 并取得国内和国际的多项技术。 FNK N沟道增强模式功率MOSFET 描述 FNK01H14T采用先进的沟槽技术和设计提供出色的RDS(ON)低栅极电荷。它可用于各种各样的应用中。 一般特点 ●VDS=100V,ID=140A RDS(ON)<6.8mΩ@ VGS= 10V(典型值:5.2mΩ) ●高密度电池设计超低导通电阻 ●全雪崩电压和电流 ●良好的稳定性和均匀性,高EAS ●良好的散热性能的包装 ●特殊工艺技术,高ESD能力 应用 ●电源开关应用 ●硬开关和高频电路 ●不间断电源 场效应管介绍 场效应晶体管(Field Effect Transistor缩写(FET))简称场效应管。由多数载流子参与导电,也称为单极型晶体管。它属于电压控制型半导体器件。具有输入电阻高(10^8~10^9Ω)、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点,现已成为双极型晶体管和功率晶体管的强大竞争者。