基本型

多层镍型

　测量原理

　利用与镀层、基材相对应的电解液、在一起电流所溶解的厚度和时间成正比，来测定膜厚的一种测量方式（即运用电化学中的库仑法来测定膜厚）

　1、测量厚度的原理和基本型相同。
　2、测量电位差是利用不同镍层之间的电位差异来反映各层镍的厚度及层间电位差。

　可测定材料

　可被电解液所电解的金属镀层，如：铜、镍、铬、锌、银、金、锡等。

　基本型仪器可测量的各种镀种的厚度及多层镍的层间电位差

　测量范围

　0.03微米~99.99微米

　厚度：0.03微米~99.99微米 电位差：-100mV~+400mV

　准确度

　±10%

　厚度：±10% 电位差：±5%

　复现精度

　<5%

　<5%

　测量值表示

荧光X-reg射线镀层测厚仪

SEA5100 采用Si（Li）半导体检测器，使之测量分辨率大大提高，弥补了用比例计数管检测时有些元素难以区分的不足,配备有小型准直器,不仅可以进行元素分析，也可测量镀层厚度，与薄膜FP法配合使用时，可以不使用标...