立体式速纳米胶体磨，速胶体磨，21000转胶体磨，德国速胶体磨 比普通的胶体磨的速度4-5，研磨效果好，转速可以21000RPM。
IKN胶体磨具有设计紧凑、实用新型，外形美观、密封良好、性能稳定、操作方便、装修简单、经久耐用、适应范围广、生产效益高等特点、是处理精细物料理想的加工设备。
它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有的微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度达2～50微米，均质度达90%以上，是微粒加工的理想设备。
影响研磨粉碎结果的因素有以下几点：
1 胶体磨磨头头的剪切速率 （越大，效果越好）
2 胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，细齿，约细齿效果越好）
3 物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
4 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就好）
线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.3mm
立体式速纳米胶体磨，速胶体磨，21000转胶体磨，德国速胶体磨 比普通的胶体磨的速度4-5，研磨效果好，转速可以21000RPM。
胶体磨的基本原理：
胶体磨在电动机的转动下物料从处直接进入高剪切破碎区，通过一种粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒破碎，然后吸 入剪切粉碎区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物 料重新压入精磨区进行研磨破碎，精磨区分三级，越向外延伸磨片越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一 级流体的方向速度发生变化，并且受到每分钟上次的剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上次的剪切、研磨粉碎之 后，从而产生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的小细度可达0.5um。
通过相对连动的定齿与动齿之间，使物料受到强大的剪切力，磨擦力及高频振动等作用，地被粉碎、乳化、均质、混合，从而获得满意的精细加工的产品。
线速度很高，剪切间隙小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
上海IKN胶体磨与国nei胶体磨的性能比较：
一、转速和剪切速率：
IKN胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以15000转
F=23/0.7X1000=32857S-1
F=40/0.7/X1000=57142S-1
国nei胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440S-1
通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍。
二、胶体磨头和间距：
IKN胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块，间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工。
国nei胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差。
三、机械密封：
IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至，可24小时不停运转。
国nei胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁。
四、清洗：
IKN胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可保护马达及齿轮箱，损坏,合流体流动原理，具有CIP/SIP在线清洗，在线功能，无需拆卸，机器设计，立式结构合流体原理，清洗更简便。
国nei胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，通常情况，需要拆卸机器进行清洗。
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