世界原位薄膜应力测量系统，又名薄膜应力计或原位薄膜应力仪！MOS美国技术！
采用激光非接触的方法，用于薄膜表面应力、曲率和翘曲测量，而且可对样品整个表面的翘曲、应力分布进行二维实时成像分析；
技术指标：
1、扫描范围：200mm（x，y）；
2、扫描速度：20mm／s（x，y）；
3、扫描分辨率：2μm；翘曲半径分辨率100Km；
4、平均曲率分辨率：＜2e-5（1／m）1-sigma（50km radius）1-sigma
5、平均翘曲测量重复性：＜5e-6（radians）1-sigma；
6、平均曲率重复性：＜2×10-5 1／m（1sigma）
7、程序化控制扫描模式：选定区域、多点线性扫描、积扫描；
8、成像功能：样品表面2D曲率成像，定量薄膜应力成像分析；
9、测量功能：曲率、曲率半径、应力强度、应力和翘曲等。
该设备已经广泛被高等学府、半导体制和微电子造商等所采用。
采用激光非接触的方法，用于薄膜表面应力、曲率和翘曲测量，而且可对样品整个表面的翘曲、应力分布进行二维实时成像分析；
技术指标：
1、扫描范围：200mm（x，y）；
2、扫描速度：20mm／s（x，y）；
3、扫描分辨率：2μm；翘曲半径分辨率100Km；
4、平均曲率分辨率：＜2e-5（1／m）1-sigma（50km radius）1-sigma
5、平均翘曲测量重复性：＜5e-6（radians）1-sigma；
6、平均曲率重复性：＜2×10-5 1／m（1sigma）
7、程序化控制扫描模式：选定区域、多点线性扫描、积扫描；
8、成像功能：样品表面2D曲率成像，定量薄膜应力成像分析；
9、测量功能：曲率、曲率半径、应力强度、应力和翘曲等。
该设备已经广泛被高等学府、半导体制和微电子造商等所采用。
