The Plaax 800C 是设计利用低频率（100KHz）产生的离子的撞击清洁作用的原理来应用在发光二体
的产品上，增加打缐的结合力与表面改质。
低频率的电源协助产生较高密度的离子震盪来更的清洁，使得制程效率更加的。
本系统包含一个大容量的腔体，可以放置六个弹匣的电结构以提供客户大量稳定生产使用。
◆操作模式：弹匣批次式置入
◆出且没有静电破坏。
利用中频产生高密度电浆，并让清洗更率更均匀。
◆制程应用：
-利用物理和化学的作用，针对金属的结合面作与清洗增加打缐结合强度
-增加表面能，让填充与点胶的流动性在胶与基板间的结合性
-利用不同气体种类可以表面改质
◆腔体尺寸：
-宽430 X 深435 X 高610 mm.
◆中空阴电
-6弹匣/每批次
◆高的电源输出：
-半自动匹配调整输入能量
-小巧简洁式的电源供应器
-输出能量为1000W
◆系统：
-保护电路与萤幕监控
-低频输出端
-腔门户所开关
-真空测漏监控
-电磁辐射干扰保护
的产品上，增加打缐的结合力与表面改质。
低频率的电源协助产生较高密度的离子震盪来更的清洁，使得制程效率更加的。
本系统包含一个大容量的腔体，可以放置六个弹匣的电结构以提供客户大量稳定生产使用。
◆操作模式：弹匣批次式置入
◆出且没有静电破坏。
利用中频产生高密度电浆，并让清洗更率更均匀。
◆制程应用：
-利用物理和化学的作用，针对金属的结合面作与清洗增加打缐结合强度
-增加表面能，让填充与点胶的流动性在胶与基板间的结合性
-利用不同气体种类可以表面改质
◆腔体尺寸：
-宽430 X 深435 X 高610 mm.
◆中空阴电
-6弹匣/每批次
◆高的电源输出：
-半自动匹配调整输入能量
-小巧简洁式的电源供应器
-输出能量为1000W
◆系统：
-保护电路与萤幕监控
-低频输出端
-腔门户所开关
-真空测漏监控
-电磁辐射干扰保护
