TDM-200膜层监控仪适用于高频溅射、直流溅射、电阻蒸发、离子束、电子束等镀膜应用场合，在线测量膜层的厚度，可用于批量生产，也可用于薄膜材料研究。本仪器具有高测量系统，可镀膜的质量和可重复性，具有稳定、易于操作、配置灵活的特点。还提供了监测和控制功能，您可通过液晶显示屏连续获取沉积速率、厚度和晶片频率；并可通过计算机记录数据并实时描绘厚度曲线和速率曲线。
▲TDM-200型膜层控制仪采用全中文人机操作界面，方便您的编程和操作。
▲频率计算和显示分辨率0.1Hz，计算速率每秒四次，为您制备薄膜提供了有力支持。
▲提供了RS-232接口，您可对镀膜过程进行遥控。并可通过计算机实时描绘厚度曲线和速率曲线。
▲对于多层膜中的关键膜层，您可使用特定的挡板探头监测，大大产品成膜质量和。
▲可配合多源镀膜系统，并为您提供了256种材料参数供使用。
▲连续镀膜还设计了自动监控方式，简化您的操作。
▲19英寸标准机箱，备有适配电缆，易于安装至现有的装置中。
▲TDM-200型膜层控制仪采用全中文人机操作界面，方便您的编程和操作。
▲频率计算和显示分辨率0.1Hz，计算速率每秒四次，为您制备薄膜提供了有力支持。
▲提供了RS-232接口，您可对镀膜过程进行遥控。并可通过计算机实时描绘厚度曲线和速率曲线。
▲对于多层膜中的关键膜层，您可使用特定的挡板探头监测，大大产品成膜质量和。
▲可配合多源镀膜系统，并为您提供了256种材料参数供使用。
▲连续镀膜还设计了自动监控方式，简化您的操作。
▲19英寸标准机箱，备有适配电缆，易于安装至现有的装置中。
