磁控溅射和电子束蒸发镀膜一体机是纳米器件制备中不可少的仪器，用于制备各种高属薄膜和氧化物薄膜。开展量子计算机实验研究，如基于金刚石NV色心，离子阱，导量子结，量子点电子自旋的研究，均需要蒸镀/溅镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件。
配置概要：
1、系统配有多个腔室：UHV蒸发室、UHV溅射室，load lock等，用于制备约瑟夫森结。
2、电子束蒸发源：（4-6）x 15cc，6-15KW，2-10KV可调。
3、溅射室配有多个磁控靶源，每个靶源有的挡板，配备气路。
4、可以注入多种气体，进行氧化处理，并且可控制其压强。
5、样品台可以适用于3英寸以上晶片，且具有样品台倾斜和旋转功能（三维转动）。
6、样品衬底在镀膜前可以通过离子进行清洁。
7、主要真空腔真空度可达10-9-10-10 Torr.
8、可以沉积几乎任何金属及氧化物薄膜。
9、蒸镀厚度控制速度分辨率：0.001nm/s
10、整个系统全自动控制，支持半自动和手动模式。
代表用户：导及量子器件研究实验室。
配置概要：
1、系统配有多个腔室：UHV蒸发室、UHV溅射室，load lock等，用于制备约瑟夫森结。
2、电子束蒸发源：（4-6）x 15cc，6-15KW，2-10KV可调。
3、溅射室配有多个磁控靶源，每个靶源有的挡板，配备气路。
4、可以注入多种气体，进行氧化处理，并且可控制其压强。
5、样品台可以适用于3英寸以上晶片，且具有样品台倾斜和旋转功能（三维转动）。
6、样品衬底在镀膜前可以通过离子进行清洁。
7、主要真空腔真空度可达10-9-10-10 Torr.
8、可以沉积几乎任何金属及氧化物薄膜。
9、蒸镀厚度控制速度分辨率：0.001nm/s
10、整个系统全自动控制，支持半自动和手动模式。
代表用户：导及量子器件研究实验室。
