HMDS真空烤箱的价格、生产HMDS预处理系统

一、HMDS真空烤箱的价格、生产HMDS预处理系统技术参数：

电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2%

输入功率：2400W

控制系统：进口智能化触摸屏+PLC系统

温度控制器：高、双数显PID控制器

控温范围：室温+10℃-250℃

温度分辨率：0.1℃

温度波动度：±0.5℃

达到真空度：133Pa

容积：90L

工作室尺寸（mm）：450*450*450(可选择)

试样架：2块

材质：316L不锈钢

二、HMDS真空烤箱的价格、生产HMDS预处理系统的特点

1）预处理性能更好，由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，再者，由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出，而接触到大气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果。

2）处理更加均匀，由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。

3）效率高，液态涂布是单片操作，而本系统可以处理多达4盒的晶片。

4）更加节省药液，

5）更加环保和安全，HMDS是有毒化学药品，人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整个过程是在密闭的环境下完成的，所以不会有人接触到药液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机，所以也不会对环境造成污染。

三、HMDS真空烤箱的价格、生产HMDS预处理系统的操作方法:

             六甲基二硅胺(HMDS)是黄光区毒的东西，建议使用HMDS真空烘箱，HMDS真空烘箱预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入通过氮气的HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。
        HMDS与硅片反应机理圈：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。
尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。