活动范围 150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离)
测量范围 200Å~ 35㎛(根据膜的类型)
光斑尺寸 20㎛ 典型值
测量速度 1~2 sec./site
应用领域 聚合体: PVA, PET, PP, PR ...
电解质: SiO2 ,TiO2 , ITO , ZrO2 , Si3N4 ..
半导体: Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS...
选择 参考样品(K-MAC or KRISS or NIST)
探头类型 三目探头
nosepiece Quadruple Revolving Mechanism with Inward Tilt
照明类型 12V 35W Halogen Lamp Built-in Control Device & Transformer
技术参数 活动范围 200mm x 200mm(8"), 300mm x 300mm(12") 测量范围 100Å~ 35㎛(Depends on Film Type) 光斑尺寸 40㎛/20㎛, 4㎛(option) 测量速度 1~2 sec./site 应用领域 All Capability of ST2000 & More Precision Measurement Intended for Wafer Measurement & OLED 选项 Programmable Auto Z Stage 参考样品(K-MAC or KRISS or NIST) 焦点 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附带照明 12v 100W Halogen Lamp 主要特点 尺寸 500 x 610 x 640 mm 重量 45Kg 类型 手动的 测量样本大小 ≤ 8", 12" 测量方法 无连接的 测量原理 反射计 特点 测量迅速,操作简单 非接触式,非破坏方式 Print Function of Each View & Data Saving 仪器介绍 1996年以来,科美在半导体,平板显示器,电子物质,生命科学和化学分析上,研发和提供了独特的,先进的解决方案。科美,作为测量和分析技术市场上的领头和动力,以它突出的表现得到了世界范围的认可。
技术参数 活动范围 300mm x 300mm 测量范围 100Å~ 35㎛(Depends on Film Type) 光斑尺寸 40㎛/20㎛,4㎛(option) 测量速度 1~2 sec./site (fitting time) 应用领域 All Capability of ST2000 & More Precision Measurement Intended for Large Size Wafer Measure 选择 Reference sample(K-MAC or KRISS or NIST) Anti-vibration table 接物镜转换器 Quintuple Revolving Nosepiecs 焦点 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附带照明 12v 100W Halogen Lamp 主要特点 ·标准模型 ·工业规格 ·自动的X-Y平台 ·自动调焦 ·半导体和裂变产物探测 尺寸 500 x 750 x 650 mm 重量 80Kg 类型 自动 测量型号 ≤ 4" 测量方法 无连接的 测量原理 反射计 特征 测量迅速,操作简单 非接触式,非破坏方式 的重复性和再现性 2D/3D 映射和造型 自动机械活动控制 电荷耦合器件照相机 自动调焦 仪器介绍 1996年以来,科美在半导体,平板显示器,电子物质,生命科学和化学分析上,研发和提供了独特的,先进的解决方案。科美,作为测量和分析技术市场上的领头和动力,以它突出的表现得到了世界范围的认可。