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- 企业类型：制造商
- 新旧程度：全新
- 原产地：广州
- ?样品盘尺寸：?175mm\t
- 温控范围：室温~200C
- 控温精度：0.1C
- UV光源波长：185nm和254nm
紫外臭氧清洗仪主要参数：
| 应用范围 | 芯片，晶圆，光学镜片等超精密器件的无损伤清洗 | |
| 型号 | OC100 | OC300 |
| 样品盘尺寸 | 175mm | 350mm |
| 仪器尺寸 | 300*260*230mm | 300*260*230mm |
| UV光源波长 | 185nm和254nm | |
| 温控范围 | 室温~200C(控温精度0.1C) | |
| 清洗模式 | 臭氧自生成模式/外接臭氧模式 | |
| 清洗时间 | 1~999分钟连续可调 | |
| 显示屏幕 | 5寸高清彩色液晶屏 | |
紫外臭氧清洗仪是一款集高效能、绿色环保与高精度于一体的表面处理设备，专为满足科研实验及工业化生产中对材料表面洁净度的严苛要求而设计。该设备的核心技术源于185nm与254nm双波长紫外光源的协同作用：185nm波长的紫外光能够裂解空气中的氧气产生高活性的臭氧及氧原子，而254nm波长的紫外光则能有效分解由光反应生成的臭氧，并激发污染物分子。两者共同作用，通过光化学反应将材料表面的有机物、油脂、光刻胶残留及微颗粒污染物迅速分解为水和二氧化碳等挥发性气体，从而实现从分子层面彻底剥离污染物的深度清洁。
在操作过程中，该设备无需借助任何化学溶剂或腐蚀性试剂，完全依靠物理与化学相结合的干法清洗机制，不仅大幅降低了耗材成本，更避免了化学废液排放带来的环境压力。其温和的清洁方式确保了对硅片、石英、金属、陶瓷等多种基材表面无损伤，尤其适合对表面精度要求极高的光学元件、半导体芯片、生物芯片及航空航天精密部件的预处理。无论是用于提升材料表面亲水性、增强镀膜附着力，还是用于实验前的洁净准备，紫外臭氧清洗仪都能在保证清洁效果的同时，相对限度地保护样品完整性。
凭借其非接触式的处理特性、均匀的清洗效果以及可精准控制的工艺参数，这款设备已广泛应用于高校实验室、微电子制造、医疗器械表面改性以及新材料研发等领域，成为推动高精尖制造与科研创新的关键工具。其绿色、高效且无损的特点，使其在现代清洁技术中占据了不可替代的地位。
