光刻胶树脂高速乳化机,聚合反应高速乳化机,半导体光刻胶高速乳化机,LCD光刻胶乳化机,PCB光刻胶高速乳化机
光刻胶是指经过不同波长的曝光光源进行曝光后,在曝光区域能够发生交联或光解,使其在显影液中的物理性能,特别是溶解性或亲疏水性发生变化的混合液体。光刻胶主要处于集成电路产业链的上游,通过蚀刻或离子注入等工艺进行微米级或纳米级图形的加工。光刻胶主要有成膜树脂、感光剂、添加剂和溶剂等组成,其中,成膜树脂直接决定光刻胶的综合性能,是光刻胶的骨架组分。
现有技术的光刻胶树脂单体在聚合成成膜树脂的过程中,通常是加入引发剂并控制聚合反应条件来完成光刻胶树脂单体的聚合反应以得到成膜树脂,但是通过该方法制备得到的成膜树脂的产率较低,聚合反应时间较长,极大地增加了生产成本。
1、粒径分布
粒径分布不均匀会导致光刻胶膜层的不均匀,进而影响曝光过程中的光传递特性和图形的质量。通常,通过激光粒度分析仪来测定树脂中颗粒的粒径分布,测量结果显示,理想的光刻胶树脂粒径应控制在0.1μm到0.5μm之间。实验数据显示,光刻胶树脂的粒径范围一般为0.15μm到0.4μm时,能够确保图案的精细性和稳定性。若粒径过大(>0.5μm),则容易造成膜层不均,影响曝光效果;若粒径过小(<0.1μm),则可能导致树脂的粘度过高,涂布困难,同时对图案的精细度产生影响。
2、黏度、流动性
较高的黏度可以确保涂布时树脂不易流动,能保证膜层的厚度稳定,而过低的黏度则可能导致涂布不均匀,影响图案质量。实验数据显示,在常规工艺中,光刻胶树脂的黏度应控制在500 cP至1000 cP之间,通常以900 cP为宜。过高的黏度(>1200 cP)会导致树脂的涂布困难,且会使膜层厚度不均,影响图案的形成。黏度的测量一般使用旋转式黏度计,通过在不同剪切速率下测量树脂的流变特性,获得其黏度值。在涂布过程中,树脂的流动性也起着重要作用,流动性过差会导致膜层厚度不均,而流动性过好则可能导致涂布膜的厚度过薄。
3、溶解性与干膜厚度
溶解度的测量通常采用溶解时间测试,常规的光刻胶树脂在常温下应能在30分钟内完全溶解,若溶解时间过长,可能意味着树脂的配方不合理或含有不溶的杂质。干膜厚度直接影响图案的解析度和成像JING度,通常要求干膜厚度在0.5μm至2μm之间。在常规的光刻工艺中,干膜厚度一般控制在1μm左右。干膜厚度的测量可以通过精密的膜厚测量仪(如表面轮廓仪)完成。在实验中,控制树脂的涂布量和固化时间可以JING确调节干膜厚度,过薄的膜层可能导致图形模糊,而过厚的膜层则可能影响曝光效果。
上海依肯
光刻胶树脂制备工艺:
(1)油相的制备:甲基丙烯酸甲酯
(2)水相的制备:单体或引发剂
(3)制备:将步骤(1)中的油相与步骤(2)中的水相混合制得悬浮液,接着将所述悬浮液移入反应釜中,在氮气的氛围中,加热至120°,反应10h后。将反应液倒入正己烷中进行沉淀处理,固液分离后,得光刻胶。
影响分散乳化结果的因素有以下几点
1 乳化头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)
2 乳化头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 乳化头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,chao细齿,约细齿效果越好)
4 物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不neng zai好)
线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) g 定-转子 间距 (m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
– 转子的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60
chaoX速分散均质乳化机的高的转速和剪切率对于获得chao细微悬浮液是重要的。根据一些行业te殊要求,依肯公司在ERS2000系列的基础上又开发出ERX2000chaoX速剪切乳化机机。其剪切速率可以chao过200.00 rpm,转子的速度可以da到66m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合研制的电机可以使粒径范围小到纳米。剪切力更强,乳液的粒经分布更窄。由于能量密度ji gao,无需其他辅助分散设备,可以da到普通的高压均质机的400BAR压力下的颗粒大小.
chaoX速分散乳化机是、kuai速、均匀地将一个相或多个相(液体、固体)进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程的设备的设备。当其中一种或者多种材料的细度da到微米数量时,甚至纳米时,体系可被认为均质。当外部能量输入时,两种物料重组成为均一相。高剪切均质机由于转子gao速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能,使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用,形成悬浮液(固/液),乳液(液体/液体)和泡沫(气体/液体)。高剪切均质机从而使不相溶的固相、液相、气相在相应熟工艺和适量添加剂的共同作用下,shun间均匀精细的分散乳化,经过高频管线式高剪切分散均质乳化机的循环往复,#终得到稳定的XX产品。
chaoX速分散乳化机应用于:奶油 化妆品 牙膏 果汁 洗涤剂 浆糊 盐溶液 催化剂 涂漆 、 聚合物乳化液 农药(除草剂 杀虫剂) | ![]() | chaoX速分散乳化机te别应用于:、 细胞破碎 脂肪乳、 注射液 混悬注射液、 胶体溶液、 金属氧化物悬浮液、 墨水 芳纶 印刷涂料 色素混合等等 混悬液 |
chaoX速分散乳化机设备等:化工、卫生I、卫生II、无junchaoX速分散乳化机电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达chaoX速分散乳化机电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZchaoX速分散乳化机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316TichaoX速分散乳化机表面处理:抛光、nai磨处理chaoX速分散乳化机进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
标准流量(H2O) | 输出转速 | 标准线速度 | 马达功率 | 进出口尺寸 | |
型号 | l/h | rpm | m/s | kW | |
ERX 2000/5 | 1,500 | 15,750 | 66 | 15 | DN40 /DN 32 |
ERX 2000/10 | 5,000 | 10,950 | 66 | 30 | DN50 / DN50 |
ERX 2000/20 | 10,000 | 7,300 | 66 | 55 | DN80 /DN 65 |
ERX 2000/30 | 30,000 | 4,000 | 66 | 90 | DN150 /DN 125 |
ERX 2000/50 | 50,000 | 3,000 | 66 | 160 | DN200 /DN 150 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
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