磺胺二甲嘧啶混悬液高剪切均质机

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磺胺二甲嘧啶混悬液，用于脑膜炎球菌、肺炎球菌、溶血性链球菌及某些革兰氏阴性杆菌引起的感染。

（1）先将乙二胺四乙酸二钠、枸橼酸钠和苯甲酸钠依次溶入20ml注射用水中，用0.45μm微孔滤膜进行过滤得溶液A。

（2）取10ml注射用水，溶入羧甲基纤维素钠加热使溶解，然后加入无水亚硫酸钠和吐温-80，搅拌完全溶解后，用0.45μm的微孔滤膜进行过滤得溶液B。

（3）将溶液B倒入溶液A中，搅拌混匀后，加入磺胺间甲嘧啶钠和替米考星，用注射用水定容至100% (V/V)，得混合液C。

（4）将混合液C通过0.22μm的微孔滤膜进行过滤除菌，无菌灌装，得到替米考星、磺胺间甲嘧啶钠注射液。

提升混悬液稳定性的主要方式如下：
①尽可能减小微粒半径，从而降低沉降速度；
②增大分散介质的粘度，以此缩小固体微粒与分散介质间的密度差。这就需要向混悬液中添加高分子助悬液，在提高介质粘度的同时，也减小了微粒与分散介质之间的密度差，并且微粒会吸附助悬液分子从而增强亲水性。

混悬液中的微粒大小并非一致，较大的微粒往往会快速沉降，而细小微粒的沉降速度极慢，细小微粒凭借布朗运动能够在介质中长期悬浮，使混悬液长时间维持混悬状态。在制备混悬液时，应让混悬微粒具备适宜的分散度，粒度均匀，以降低微粒的沉降速度，使混悬液处于稳定状态。

传统的混悬液生产大多采用普通胶体磨，其转速仅为 3000rpm，生产出的悬浮液颗粒较粗，静置一段时间后容易产生絮凝，影响药效和使用。为此，有医药厂家在对国内设备进行考察后，舍弃了具有极大价格优势的国内设备，转而咨询低能耗、高转速、定转子极为精密、研磨精细的上海 IKN 高速胶体磨。设备转速可达 14000RPM，可通过变频调速经皮带加速来实现。（其转速是普通分散设备的 3 至 4 倍，研磨力度也是普通胶体磨的 3 至 4 倍，如此一来，研磨出的细度更小，效果更佳）

高剪切湿法研磨机广泛应用于现代工业中。能够根据工艺需求在线即时调节物料的粉碎和研磨细度，从而控制物料粒径分布在特定范围内，避免因粒径过粗或过细影响产品质量。

在精细化工领域，颜料、染料、油漆、油墨、塑料助剂等产品的生产需要湿法研磨；生物医药行业中，注射剂、抗生素、保健品以及细胞组织破碎等工艺也依赖湿法研磨；农药行业中，杀虫剂、种衣剂、除草剂的制备同样需要湿法粉碎；此外，食品行业中的果酱、巧克力浆、食品添加剂等加工也离不开湿法研磨技术。

目前，常用的湿法超细粉碎设备包括砂磨机和胶体磨。然而，砂磨机因使用玻璃珠或氧化锆珠等研磨介质，容易对物料造成污染，不适用于医药、食品和化妆品等行业。而传统胶体磨虽然无需研磨介质，但其开放式操作容易导致物料污染，且产能较低、效率不高，难以满足大规模工业化生产需求。此外，这两种设备在处理高粘度或流动性较差的物料时存在明显局限，且对粉碎粒径的控制能力较弱，因此亟需一种更高效、适应性更强的超细湿法粉碎设备。

IKN在传统胶体磨的基础上进行了多项改进，将转速从传统的3000转提升至14000转，甚至可达21000转的超高转速，显著提升了细碎效果和作用效率。在结构设计上，除了保留原有的细碎研磨功能外，还新增了高速离心分散功能，使物料在细碎后能够更加稳定地分散，避免分层、沉淀或浮油现象的发生。

IKN改进型胶体磨通过定转子间的可调间隙，使物料在通过研磨区域时受到强大的机械力、液力剪切和高频振动等多重物理作用，实现高效剪切剥离、分散和粉碎。随后，物料进入第二级高速剪切分散盘，经过进一步剪切细化、匀化处理，最终达到超细粉碎和均匀分散的效果。

IKN研磨分散机的行业应用与优势

IKN研磨分散机在制药、食品和精细化工行业中表现出色，能够实现均匀的粒度分布和解聚分散，帮助企业在减少资本支出的同时提升产品质量。其设计融合了多项创新技术，具有更高的多功能性和更便捷的清洁维护特性，满足了行业对高效、稳定和易操作设备的需求。

IKN研磨分散机采用胶体磨与分散机的一体化设计，相较于传统胶体磨与分散机的串联方式，具有显著优势。在胶体磨与分散机串联的工艺中，由于存在时间差，物料经过胶体磨磨细后容易发生团聚现象，随后再通过分散机进行分散时，效果往往不理想。  

而IKN的CMSD超细研磨分散机则优化了这一过程。物料在磨细后能够立即进入分散工作组，实现即时分散。由于在物料尚未发生团聚之前便完成了分散操作，这种瞬时作用大幅提升了分散效果，显著优于传统串联方式。

实验室最小型：

CMSD2000系列研磨分散机参数选型表 

研磨分散机 流量 输出 线速度 功率 入口/出口连接

类型 l/h rpm m/s kW

CMSD2000/4 300 14,000 41 4 DN25/DN15

CMSD2000/5 1000 10,500 41 11 DN40/DN32

CMSD2000/10 4000 7,200 41 30 DN80/DN65

CMSD2000/20 10000 4,900 41 45 DN80/DN65

CMSD2000/30 20000 2,850 41 90 DN150/DN125

CMSD2000/50 60000 1,100 41 160 DN200/DN150

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%

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