软胶囊内容物研磨分散机

软胶囊内容物研磨分散机，胶囊内颗粒研磨分散机，头孢混悬液纳米乳化机，德国药用卫生级胶体磨，医用纳米均质机

软胶囊内容物研磨分散机，此款医药改良型胶体磨不仅转速高达14000rpm，并且在传统胶体磨的基础上加入了一组分散盘，先研磨后分散，物料粒径更细，更稳定!

软胶囊制剂多用于非水溶性、对光敏感、遇湿热不稳定、易氧化额挥发的药物。它密封严密、用量jingque、生物利用度高，药物的稳定性也得到提升，此外还有掩盖不良嗅味的作用。实验证明，口服制剂的生物利用度，以内容物为溶液的软胶囊，混悬液次之，再次为含颗粒的硬胶囊，zui差为片剂。

粉碎技术逐渐应用到软胶囊领域，通过研究发现，药材经过超微化粉碎后，粉末粒径大小分布均匀，球性度和均质度明显改善，这些细粉较易混悬在水或者溶剂以及植物油当中，质量较为稳定。另外随着软胶囊行业的发展，对于胶囊的内容物的处理，出现的大量的设备，如:胶体磨、均质机、分散机等。这些设备通过对内容物的剪切，从内容物粒径更加细化，粉末分散更加均匀。而应对这种情况，研发出了的设备，改良性胶体磨，该胶体磨结合了高剪切胶体磨和高剪切分散机的特点，将二者一体，形成的设备，我们也将它定义为“研磨分散机”。

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

2 胶体磨磨头头的剪切速率 (越大，效果越好)

3 胶体磨头的齿形结构(分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好)

4 物料在研腔体的停留时间，研粉碎时间(可以看作同等的电机，流量越小，效果越好)

5循环次数(越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好)

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。剪切速率 s-1v 速率 m/s

g 定-转子 间距 m

由上可知，剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。

IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V 3.14XD(转子直径)X转速RPM/ 60

研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品

一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是;在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是 转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验,工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的座擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有jingxi度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

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