小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD
是一款小型多功能镀膜仪，额定1800度高温，自动样品挡板，靶台旋转，触摸屏多段控制，工艺储存等功能。
正空蒸发镀膜包括以下基本过程：（1）加热蒸发过程：包括由凝聚相转变为气相的过程，每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。（2）气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输，即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。
（3）蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发，凝聚，成核，核生长，形成连续的膜。由于基板温度远
低于基板温度远低于蒸发源温度，因此，气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。
小型蒸镀仪郑州科探仪器技术资料
控制方式
| 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
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加热方式
| 数字式功率调整器
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镀膜功能
| 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
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功率
| ≤1200W
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输出电压电流
| 电压≤12V 电流≤120A
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真空度
| 机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa
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挡板类型
| 电控
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真空腔室
| 石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm
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样品台
| 可旋转φ62 （可安装φ50基底）
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样品台转速
| 8转/分钟
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样品蒸发源调节距离
| 70-140mm
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蒸发温度调节
| ≤1800℃
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支持蒸发坩埚类型
| 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳
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预留真空接口
| KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口
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可选配扩展
| 机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa） 分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）
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