IKN掩蔽剂实验室高速纳米乳化机

IKN掩蔽剂实验室高速纳米乳化机

掩蔽剂是指用以掩蔽干扰离子的试剂。分析化学中的所谓“掩蔽”，是指离子或分子无须进行分离而仅经过一定的化学反应(通常是形成络合物)即可不再干扰分析反应的过程。对于有干扰的离子或分子，如不用分离的方法,则**借助于掩蔽手段。常用的掩蔽剂有无机掩蔽剂和有机掩蔽剂两大类。有机掩蔽剂品种更多，效果更好，得到了更多的研究和应用。

基本简介

分析化学中的所谓“掩蔽”，是指离子或分子无须进行分离而仅经过一定的化学反应(通常是形成络合物)即可不再干扰分析反应的过程。对于有干扰的离子或分子，如不用分离的方法,则**借助于掩蔽手段。一些有机染料结合了一些过渡金属离子后，可以在一定波长的光线（如紫外线）照射下发光，一旦将其中的过渡金属离子移走，体系即失去发光的能力。能将过渡金属离子从发光体系中夺走的物质就叫荧光掩蔽剂，通常是一些具有络合能力的试剂，如EDTA等。

掩蔽原理

利用络合反应、氧化还原反应或沉淀反应，消除干扰离子的试剂  。

1.络合反应。如使用硫氰化钾检验含三价铁离子的二价钴离子溶液，应用NaF作掩蔽剂。就是因为三价铁与氟离子发生络合反应。

2.沉淀反应。如检验某离子时，利用硫酸盐作为钡离子的掩蔽剂（见“常用掩蔽剂”条目），就是利用两者结合生成沉淀以消除离子干扰。

3.氧化还原反应。如检验离子时，利用氨气作为次氯酸根离子的掩蔽剂（见“常见掩蔽剂”条目），就是利用两者发生氧化还原反应而消除次氯酸根离子的干扰。 

设备设计构造：

国内ru化机，卧室直联结构，运行时间长，容易造成轴的偏心，运转不正常，需要**的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的ru化头及轴

IKN高剪切ru化机，立式分体结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。

密封：

国内ru化机，填料密封或骨架密封，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

IKN高剪切ru化机，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至*低，可24小时不停运转，特殊德国PDFE轴封，可以运行10000小时，可选择德国高品质机械密封，在一般的情况下，我们的机械密封可以**承受16bar 压力，根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口**压力可以达到12-13 bar .

产品效果：

国内ru化机，粒径细度有限，10微米以下较困难，重复性差，产品粒径分布不均匀

IKN高剪切ru化机，可实现0.1-1微米的颗粒加工，粒径分布均匀，**级分散ru化

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