ABL2000气浮平台
1专为晶片成像/缺陷探测/涂覆应用设计
2运动平滑,速度稳定性突出
3直线编码器或激光干涉仪反馈
4行程达1.2米
5全预加负载气浮导轨(空气轴承)
6非接触设计
行程≤1200mm
±0.50um
重复定位±0.20um
直线度±0.25um
平面度±0.25um
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ABL2000气浮平台
1专为晶片成像/缺陷探测/涂覆应用设计
2运动平滑,速度稳定性突出
3直线编码器或激光干涉仪反馈
4行程达1.2米
5全预加负载气浮导轨(空气轴承)
6非接触设计
行程≤1200mm
±0.50um
重复定位±0.20um
直线度±0.25um
平面度±0.25um