应用领域
集成电路光刻:制造工具
集成电路光刻:157nm,193nm,248nm准分子激光光束传输系统
非光刻:激光和成像光学
关键特性
优异的深紫外性具体材料指标,
高激光耐久性
低应力双折射
高折射率一致性
紫外率曲线
率曲线
咨询电话SERVICE LINE
86-21-58959778

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