本设备为科研工作者在新材料的开发和研制中提供了在高真空、高温和强磁场复合条件下处理实验样品的环境。其性在于将真空、加热和磁场这三个模块系统地整合到一个统一的整体。并在加热升/降温过程和磁场加载卸载过程中采用PID程序控制，实现加载实验过程的自动化和程序化。该设备操作简单，维护方便，温度和磁场的控制高，稳定性好。
2010年底我公司沙特阿卜杜拉科技大学实验设备的采购订单
真空系统采用旋片式机械泵与涡轮分子泵串联组合结构，系统在工作温度下可实现较高的真空度。系统配备了微调进气阀，方便用户在实验过程中向真空腔内充氩气、氮气等气体，降温速度。
加热系统采用40段可编程PID控制器。恒温控制为±1℃。
磁场产生系统同样采用40段可编程PID控制器。恒磁控制为±0.1mT.
冷却水系统采用监控结构，利用温度传感器分别监测加热炉冷却水和真空泵冷却水水温，通过微调流量阀，分别调节加热炉磁场及分子泵的冷却水流量，控制出口水温。
本公司可根据客户需要设计制造更高温度、更强磁场、更高真空度和更大的实验样品空间的“高真空强磁场热处理炉”。
2010年底我公司沙特阿卜杜拉科技大学实验设备的采购订单
真空系统采用旋片式机械泵与涡轮分子泵串联组合结构，系统在工作温度下可实现较高的真空度。系统配备了微调进气阀，方便用户在实验过程中向真空腔内充氩气、氮气等气体，降温速度。
加热系统采用40段可编程PID控制器。恒温控制为±1℃。
磁场产生系统同样采用40段可编程PID控制器。恒磁控制为±0.1mT.
冷却水系统采用监控结构，利用温度传感器分别监测加热炉冷却水和真空泵冷却水水温，通过微调流量阀，分别调节加热炉磁场及分子泵的冷却水流量，控制出口水温。
本公司可根据客户需要设计制造更高温度、更强磁场、更高真空度和更大的实验样品空间的“高真空强磁场热处理炉”。
其他说明
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产品名称 |
高真空强磁场热处理炉 |
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产品型号 |
VM-500 |
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输入电压 |
三相 380V |
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总功耗 |
~ 3kw |
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冷却水入水温度 |
≤ 25 ℃ |
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冷却水出水温度 |
≤ 40℃ |
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冷却水流量 |
≤ 3 升 / 分钟 |
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样品大小 |
5* Ø 2 0 mm |
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设备尺寸 |
720mm( 长 )* 760mm( 宽 )* 760mm( 高 ) |
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设备净重 |
246kg |
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真空系统参数 |
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| 前级真空泵 |
旋片式机械泵 |
| 真空泵 |
涡轮式分子泵 |
| 真空计 |
两级复合真空计 |
| 冷态真空度 |
~ 1E-5Pa |
| 800 ℃ 真空度 |
~ 1E-4Pa |
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加热系统参数 |
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| 温度范围 |
室温~ 800 ℃ |
| 控制方式 |
1* 40/2* 20/4* 10 可编程 PID 控制 |
| 测温 |
铂铑 / 镍铬镍硅 热电偶 |
| 控温 |
&plun; 1 ℃ |
| 升温速度 |
≤ 10℃/ 分钟 |
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磁场系统参数 |
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| 磁感应强度范围 |
0 ~ 50mT |
| 磁场类型 |
磁线圈 |
| 磁场方向 |
水平 |
| 磁场控制方式 |
1* 40/2* 20/4* 10 可编程 PID 控制 |
| 磁场控制 |
&plun; 0.1mT |
| 磁场加载速度 |
≤ 50mT/ 分钟 |
