SFQ-1506ZT型自动硅片清洗机是一种为特定工艺要求而设计的湿法腐蚀清洗设备，它主要用于太阳能电池硅片生产过程中硅片的化学腐蚀及DI水冲洗工艺。设备具有自动化程度高，运行成本低，生产效率高，性能稳定，等特点。
主要技术特点
□ 各清洗槽功能可根据用户要求配置
□ 槽体材料可选用石英、PTFE、PVDF、
□ PP和不锈钢等
□ PLC控制，触摸屏操作面板
□ 温控，可±0.5℃
□ 伺服驱动系统及片盒传输系统
□ 关键外购件选用材料
□ 多种工作模式：全自动、半自动、手动等
□ 实时状态显示及故障报警
□ 腐蚀槽配置自动盖
□ 可实现化学液循环、自动配液等功能
主要技术指标
□ 清洗片盒数量：每个载体9盒
＊可根据用户定制
□ 氮气压力：0.3～0.35MPa
□ 压缩空气压力：0.45～0.6MPa
□ 去离子水压力：0.2～0.3MPa
□ 自来水压力：0.2～0.3MPa
□ 排水口管径：OD φ60mm
□ 设备废气排风量：≥8500L／min／每个排风口
□ 电源：AC380V±38V 50Hz （三相五线制）
主要技术特点
□ 各清洗槽功能可根据用户要求配置
□ 槽体材料可选用石英、PTFE、PVDF、
□ PP和不锈钢等
□ PLC控制，触摸屏操作面板
□ 温控，可±0.5℃
□ 伺服驱动系统及片盒传输系统
□ 关键外购件选用材料
□ 多种工作模式：全自动、半自动、手动等
□ 实时状态显示及故障报警
□ 腐蚀槽配置自动盖
□ 可实现化学液循环、自动配液等功能
主要技术指标
□ 清洗片盒数量：每个载体9盒
＊可根据用户定制
□ 氮气压力：0.3～0.35MPa
□ 压缩空气压力：0.45～0.6MPa
□ 去离子水压力：0.2～0.3MPa
□ 自来水压力：0.2～0.3MPa
□ 排水口管径：OD φ60mm
□ 设备废气排风量：≥8500L／min／每个排风口
□ 电源：AC380V±38V 50Hz （三相五线制）
