我公司为了满足国内电子行业中大量应用酸蚀刻技术加工各种硅晶片、液晶显示器铝镀膜、铝电箔等电子产品的要求，研制开发出了净高纯化学试剂的精馏装置。
酸蚀刻技术对化学试剂的纯净度有着高的要求，达不到要求的化学试剂中的某些特定离子浓度导致电子产品被污染而报废，这就需要提供高纯洁净度的化学试剂来满足电子行业的需要。
我公司具有二十多年的生产经验，为国内众多高纯试剂生产企业提供了多种产品的精馏装置，生产出的高纯化学试剂产品质量了SEMI-C7、C8、C12标准。
目前，我公司的净高纯化学试剂精馏装置二十多个品种、一型号规格，是国内能够提供大型、多品种高纯试剂精馏装置的生产企业。
我公司研制开发的电子工业净高纯化学试剂（、盐酸、硝酸等）精馏装置技术参数与特性：
1、生产装置规模：1000——5000吨/a（单一品种可按用户要求设计）；
2、生产装置高度：4——6米（不同品种，高度不一）；
3、产品质量：控制0.3um颗粒，单项金属元素1ppb以下；
4、装置结构特性：塔内装有气、液分布与再分布器；
5、运转方式：连续性生产；
6、技术特性：型生产装置。
酸蚀刻技术对化学试剂的纯净度有着高的要求，达不到要求的化学试剂中的某些特定离子浓度导致电子产品被污染而报废，这就需要提供高纯洁净度的化学试剂来满足电子行业的需要。
我公司具有二十多年的生产经验，为国内众多高纯试剂生产企业提供了多种产品的精馏装置，生产出的高纯化学试剂产品质量了SEMI-C7、C8、C12标准。
目前，我公司的净高纯化学试剂精馏装置二十多个品种、一型号规格，是国内能够提供大型、多品种高纯试剂精馏装置的生产企业。
我公司研制开发的电子工业净高纯化学试剂（、盐酸、硝酸等）精馏装置技术参数与特性：
1、生产装置规模：1000——5000吨/a（单一品种可按用户要求设计）；
2、生产装置高度：4——6米（不同品种，高度不一）；
3、产品质量：控制0.3um颗粒，单项金属元素1ppb以下；
4、装置结构特性：塔内装有气、液分布与再分布器；
5、运转方式：连续性生产；
6、技术特性：型生产装置。
