Q150T系列:涡轮泵高真空镀膜仪,可进行精细颗粒镀膜,适合场发射电镜制样应用以及制作无定形碳覆形膜及TEM栅网支持膜。基于内部安装的涡轮分子泵抽真空平台,Q150T具有三种版本/型号的镀膜仪:溅射、蒸发镀碳和溅射/蒸镀。在运用新科技整体成型的机箱上,设有彩色触摸屏,可允许多用户输入和贮存镀膜方案。在同一个易使用系统中,根据所选择的配置,Q150T可以是一台具水准的离子溅射镀膜仪用于高分辨扫描电镜(SEM)制样,也可以是一台适合SEM或电镜(TEM)应用的蒸发镀碳仪,或者是一台兼具溅射和蒸镀两功能的一体化镀膜仪。Q150T具有快速溅射易氧化和不氧化金属靶材的宽可选范围的能力,使其也成为许多薄膜应用等材料科学领域的一个理想镀膜平台。
高真空性能
Q150T装在一个坚固的整体成型机壳中,它容纳了工作部件,包括空气冷却的涡轮分子泵。自动进气控制了溅射期间的真空条件。真空腔室带有爆罩。Q150T含有的“真空闭锁”允许在不用设备时维持腔室真空,从而真空性能。
Q150T系列三种型号
Q150TS:高分辨率磁控离子溅射镀膜仪,可溅射易氧化及不氧化金属(贵金属)。可选各种溅射靶材,包括常用于场发射电镜的铱和铬。
Q150TE:高真空热蒸发镀碳仪,可制作高稳定性的碳膜和表面覆形膜,对电镜(TEM)的应用理想。
Q150T:了溅射和蒸镀两种沉积镀膜功能的镀膜系统,沉积镀膜头可在数秒内快速更换,智能逻辑系统自动识别出所装的镀膜头类型,并显示相应的操作设置。
上述每个型号还可选配一系列可选附件,如:金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等。
触摸屏控制
Q150T的操作为简单的触摸屏,即使不熟练的或偶而使用的操作者,仪器也能使其快速键入和贮存自己的处理数据。程序中已贮存了各种典型溅射及蒸发镀膜的参数资料,以便提供进一步的易操作帮助。