高真空蒸镀仪

　　K950X高真空蒸镀仪在使用碳棒蒸镀时可给出连续的碳膜，并且使用涡轮分子泵时无污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜，以及SEM中的导电涂层。　
　　
　　在厚度为2nm（20埃）或更厚时膜是连续的。通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以电流密度，使得它具有的温度来引起蒸发。基于这点，出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或涡轮分子泵1x10-4mbar或更高的真空度。　
　　
　　涡轮分子泵在K950X中作为标准配置，此泵作为机械真空泵的后级泵，真空为全自动控制，真空度1x10-5mbar。可进行预热及除气控制，同时用瞬时蒸发开关使脉冲蒸发在用户控制下进行。　
　　
　　标准的旋转样品台可进行倾斜调节，容易适应各种样品座。可选的样品台具有的凹槽，可放置标准的载玻片，这在“石棉分析”需要镀碳层时尤为有利。　
　　
　　碳棒头在仪器中作为标准件。这是一个“快速释放头”，使用户在选择金属蒸发附件、碳丝及光阑清洗头时可方便地更换。放气系统具有互锁装置，避免样品受到干扰。涡轮分子泵可安装在任何轴上，并且可地“关闭”直接通大气。　
　　
　　主要特点
　　●全自动抽气系统
　　●旋转样品台
　　●菜单驱动式“用户”键盘输入
　　●快速释放头方便选择不同的头
　　●约束的排气控制
　　●涡轮分子泵抽真空　
　　●容易操作
　　●均匀的样品涂层
　　●方便多用户操作
　　●可用于蒸碳及蒸镀金属
　　●在排气过程中可样品损坏
　　●碳棒或碳丝蒸发。　
　　
　　技术参数
　　仪器尺寸：450mmWx350mm　Dx175mmH（Overall　height　with　Work　Chamber　750mm）；重量：28Kg
　　工作腔室：硼硅酸盐玻璃165mm　Diax125mmH
　　钟罩：聚碳酸酯
　　铝机座：110mm　Diax115mmH
　　碳源：直径3.2mm碳棒
　　旋转样品台：直径为60　mm，倾斜0-90o
　　到电距离为110mm到130mm
　　真空计范围：ATM-1x10-5mbar
　　操作真空：1x10-2　to　1x10-5mbar
　　安培计：0-50　Amps
　　低电压选择：0-5V-15V-25V
　　除气电流：0-25　Amps
　　涡轮分子泵：50L／Second　
　　Services　-Argon-Nominal　4psi。Rotary　Backing　Pump-Two　Stage　Vacuum　Pump　No。2，35L／Min　
　　complete　with　Vacuum　Hose　＆　Oil　Mist　Filter。2m3／Hr
　　电源：230V　50Hz（包括泵电流8安培）；115V　60Hz（包括泵电流16安培）。