AJA公司的磁控溅射靶是为了满足真空薄膜研究的需要而设计的。它的多功能性设计在世界上是处于的，如模块化磁场排布、原位倾斜装置、在靶上集成的气环、圆锥形的靶罩以及其他真空的设计等。真空磁控溅射靶是目前市场上的研究用靶。
其主要功能及特点：
可以做直流和射频溅射。
可以溅射磁性及非磁性材料。
模块化磁场排布。
冷却水和磁铁不直接接触。
真空设计。
不需要拆卸可直接烤到200摄氏度。
工作压力范围宽（0.5-1Torr）。
有较高的溅射速率和沉积均匀性。
可选部件：
＋／-45°倾斜装置。
原位倾斜装置。
集成在靶上的气环。
圆锥形靶罩，用于非轴向溅射。
真空Z轴手动移动和气动挡板。
复合法兰。
其它要求。
其主要功能及特点：
可以做直流和射频溅射。
可以溅射磁性及非磁性材料。
模块化磁场排布。
冷却水和磁铁不直接接触。
真空设计。
不需要拆卸可直接烤到200摄氏度。
工作压力范围宽（0.5-1Torr）。
有较高的溅射速率和沉积均匀性。
可选部件：
＋／-45°倾斜装置。
原位倾斜装置。
集成在靶上的气环。
圆锥形靶罩，用于非轴向溅射。
真空Z轴手动移动和气动挡板。
复合法兰。
其它要求。
