小型激光直写机
激光直写机用于CAD到基板的直接套写。既可作为常规的套写工具也可用于特定规格的定制系统。LW405B是LW405A的升级版，它包括Windows7用户界面，全数字摄像机、XY激光干涉机以及数项附加软件功能。
改系统由三部分组成：
直写单元
控制单元
LaserDraw 软件包
每个部分的详细技术介绍参见以下介绍
应用包括直接基板套写及微电子掩膜制造、微波电路、太赫兹技术、微机械、微流体、石墨和纳米管技术等。
所述规格皆可定制
LW405-A 激光直写型号 标准型 紧凑型 台式 选配
工作区域（mm）
激光直写机的工作区域可匹配各类掩膜或基板尺寸。包含一个真空仓（仓体表面通常根据客户要求定制）。基板尺寸可以大于或等于工作区域。 150x150
（6"x6"） 150x150
（6"x6"） 50x50
（2"x2"） up to 350x350
定位（µm）
这一参数代表的是在整个工作区域的定位误差以及由于不同的掩膜或工艺水平所可能导致的特征重叠。但这与所的分辨率无关，如小线宽。 &plun;0.1 &plun;1 &plun;1
XY 激光干涉仪
10 nm分辨率 Yes No No
小线宽（µm）
小线宽操作者可以在0.8、2、4或8µm间进行选择。对于高密度互联或微波电路的快速直写，可选择一个低分辨率的模式（10m）。 0.8 0.8 2
曝光波长（nm）
直写光束的标准波长为405nm（来源于GaN固体激光）。对于生物化学应用可选配325nm波长（来源于He-CD 气体激光）。05 325，375，405＆375
护层曝光
包含标准的含护层的膜（铬或氧化铁）。除了掩膜直写，本系统也适用于在终基板上进行无膜直接套写（硅、GaAs、InP、微波\低温\生物学基板等）。
激光直写机用于CAD到基板的直接套写。既可作为常规的套写工具也可用于特定规格的定制系统。LW405B是LW405A的升级版，它包括Windows7用户界面，全数字摄像机、XY激光干涉机以及数项附加软件功能。
改系统由三部分组成：
直写单元
控制单元
LaserDraw 软件包
每个部分的详细技术介绍参见以下介绍
应用包括直接基板套写及微电子掩膜制造、微波电路、太赫兹技术、微机械、微流体、石墨和纳米管技术等。
所述规格皆可定制
LW405-A 激光直写型号 标准型 紧凑型 台式 选配
工作区域（mm）
激光直写机的工作区域可匹配各类掩膜或基板尺寸。包含一个真空仓（仓体表面通常根据客户要求定制）。基板尺寸可以大于或等于工作区域。 150x150
（6"x6"） 150x150
（6"x6"） 50x50
（2"x2"） up to 350x350
定位（µm）
这一参数代表的是在整个工作区域的定位误差以及由于不同的掩膜或工艺水平所可能导致的特征重叠。但这与所的分辨率无关，如小线宽。 &plun;0.1 &plun;1 &plun;1
XY 激光干涉仪
10 nm分辨率 Yes No No
小线宽（µm）
小线宽操作者可以在0.8、2、4或8µm间进行选择。对于高密度互联或微波电路的快速直写，可选择一个低分辨率的模式（10m）。 0.8 0.8 2
曝光波长（nm）
直写光束的标准波长为405nm（来源于GaN固体激光）。对于生物化学应用可选配325nm波长（来源于He-CD 气体激光）。05 325，375，405＆375
护层曝光
包含标准的含护层的膜（铬或氧化铁）。除了掩膜直写，本系统也适用于在终基板上进行无膜直接套写（硅、GaAs、InP、微波\低温\生物学基板等）。
