OMT-MX系列工业检测显微镜
主要用于半导体硅晶片检测、LCD液晶屏检测、实验室材料分析及其他精密工程检测领域，可对样品进行明场、暗场及简易偏光观察。
性能特点
★系统采用无限远平场消色差、长工作距、明暗场两用物镜，成像清晰、像面平坦
★配备反射式柯拉照明系统，为不同倍率的物镜提供均匀充足的照明
★正像三通观察筒，25°倾斜，大的了观察的舒适性与操作的适应性
★配备了6"带离合器机械平台，行程158*158mm，可快速移动
★人机学设计，高刚性镜臂，”Y“型底座，调焦机构采用前置式操作控制，粗微调同轴
★光源采用宽电压数字调光技术，具有光强设定与复位功能
★可选配摄影摄像装置、简易偏光装置、干涉滤光片、测微尺等附件，拓展应用领域
OMT-MX主要技术参数
光学系统无限远色差校正光学系统
物镜无限远平场消色差，长工作距金相物镜（明暗场两用），5X、10X、20X、50X、80X
目镜高眼点平场目镜，PL10X，线视场φ22mm
高眼点平场目镜，PL15X，线视场φ16mm
观察筒正像，铰链式三目，25°倾斜，分光比：双目100%，三目100%
照明系统反射式柯拉照明，明暗场切换，带简易偏光接口，12V/100W卤素灯，预置中心
采用数字调光，具有光强设定与复位功能，带针孔光栏
调焦机构粗微调同轴，带粗调上限位、松紧调节装置和随机限位装置
粗调行程：33mm（焦后1mm），微调：0.001mm
样品高度：32mm
物镜转换器内定位、内倾式、五孔、明暗场两用物镜转换器
载物台 6英寸矩形，机械移动平台200mmX200mm，移动行程：158mmX158mm
低位同轴调节，带离合器控制手柄，可快速移动
机架的人机工程学设计，高刚性镜臂，”Y“型底座，前置式操作控制
选购附件摄影摄像装置、简易偏光装置、干涉滤光片、测微尺等
主要用于半导体硅晶片检测、LCD液晶屏检测、实验室材料分析及其他精密工程检测领域，可对样品进行明场、暗场及简易偏光观察。
性能特点
★系统采用无限远平场消色差、长工作距、明暗场两用物镜，成像清晰、像面平坦
★配备反射式柯拉照明系统，为不同倍率的物镜提供均匀充足的照明
★正像三通观察筒，25°倾斜，大的了观察的舒适性与操作的适应性
★配备了6"带离合器机械平台，行程158*158mm，可快速移动
★人机学设计，高刚性镜臂，”Y“型底座，调焦机构采用前置式操作控制，粗微调同轴
★光源采用宽电压数字调光技术，具有光强设定与复位功能
★可选配摄影摄像装置、简易偏光装置、干涉滤光片、测微尺等附件，拓展应用领域
OMT-MX主要技术参数
光学系统无限远色差校正光学系统
物镜无限远平场消色差，长工作距金相物镜（明暗场两用），5X、10X、20X、50X、80X
目镜高眼点平场目镜，PL10X，线视场φ22mm
高眼点平场目镜，PL15X，线视场φ16mm
观察筒正像，铰链式三目，25°倾斜，分光比：双目100%，三目100%
照明系统反射式柯拉照明，明暗场切换，带简易偏光接口，12V/100W卤素灯，预置中心
采用数字调光，具有光强设定与复位功能，带针孔光栏
调焦机构粗微调同轴，带粗调上限位、松紧调节装置和随机限位装置
粗调行程：33mm（焦后1mm），微调：0.001mm
样品高度：32mm
物镜转换器内定位、内倾式、五孔、明暗场两用物镜转换器
载物台 6英寸矩形，机械移动平台200mmX200mm，移动行程：158mmX158mm
低位同轴调节，带离合器控制手柄，可快速移动
机架的人机工程学设计，高刚性镜臂，”Y“型底座，前置式操作控制
选购附件摄影摄像装置、简易偏光装置、干涉滤光片、测微尺等
