产品说明： . 中频交流磁控溅射镀镆：HC系列真空膜机，采用的中频交 流磁控溅射镀膜技术。 . 中频交流磁控溅射镀膜技术的优点： . 蒸发速率与离化率高，稳定不容易中毒。 . 膜层细腻致密，可稳定控制膜厚和颜色。 . 沈积反应膜层，稳定。 . 可广泛多样地交联搭配溅射耙的安装方式。 . 可广泛多样地任意选择耙材：使用导电材料与非导电材料靶 材，或不同靶材同时工作蒸发，或的镶嵌复合靶镀膜的 技术。 . 溅射靶的设计，的结构，严格的磁场分配，合理的 水冷却，经过严密的氦气测漏仪真空检漏，长时间工作稳定 ，靶材利用率高。 . 简便的安装设计与容易的保养维修，备件互换性好。系统展 。
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