性能特征:
全自动控制
冷却系统((功率是6W)
低电压溅射(100V,DC;每分钟温度升高不到2°C)
镀膜厚度(2nm金粒)
的可重复性
镀膜厚度20nm或200A(扫描电镜)
微电子控制
三个靶台同时溅射
聚碳酸脂外壳
仪器参数:
仪器尺寸:450mm(W)x 350mm(D)x 175mm(H)
工作腔室硼硅酸盐玻璃:225mm(Dia.)x 125mm(H)
重量:24Kg
靶台:3 x 60mm Dia.x0.1mm 厚
旋转样品台:155mm Dia.距离靶台40 to 50mm可调
真空范围:ATM­1x10-2 mbar
镀膜电流范围:0-100mA
镀膜速率:0-20nm/minute
溅射镀膜时间:0-4 minutes
电源:230 volts 50Hz(8 AMP 包括泵)
维护:氩气­通常 4 psi
真空泵(推荐)整套真空泵软管和油气过滤器135L/Min