基体金属：Gr1，Gr2，（TA1，TA2）Ta，Nb
特点：腐性能高，电流效率高工作寿命长，电的重量轻电失去以后，基体可以，电流密度大，生产效率高
应用：金属制箔、电镀、辅助阳阴保护、物合成，酸性水电解，金属表面处理、电渗析、贵金属电解制取，水平电镀脉冲电镀，稀，贵金属电解制取。
浓度范围：<60%
涂层材料：IrO2＋Ta2o5＋X
温度范围：<60℃
电流密度范围：<11500A/m2
氟离子含量：<50mg/L
贵金属含量：25-115G/M2
pH 值：1-12
特点：腐性能高，电流效率高工作寿命长，电的重量轻电失去以后，基体可以，电流密度大，生产效率高
应用：金属制箔、电镀、辅助阳阴保护、物合成，酸性水电解，金属表面处理、电渗析、贵金属电解制取，水平电镀脉冲电镀，稀，贵金属电解制取。
浓度范围：<60%
涂层材料：IrO2＋Ta2o5＋X
温度范围：<60℃
电流密度范围：<11500A/m2
氟离子含量：<50mg/L
贵金属含量：25-115G/M2
pH 值：1-12
