原装MYCRO掩膜对准曝光机，包含EM-5026M1，EM-5086，EM-5026B，EM-5026AM四个型号，是的光刻系统，广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；并且该系列的掩膜对准曝光机已经被众多企业、研发中心、研究所和高校采用，作为他们光掩膜对准曝光机作为光刻系统，重要的技术在于以下两个方面：掩模-晶圆片对准，以及将掩模版上的图案复制到晶圆片上，为下一步进行可是或者离子注入工序做好准备。作为他们光刻系统的；其的技术、精湛的工艺和良好的服务，了广大用户的青睐。
MYCRO掩膜对准曝光机/光刻系统的曝光方式，是采用可调节压力的接触式曝光，降低了光刻胶对掩模版的污染以及掩模版的磨损，从而掩模版的寿命。因此，MYCRO紫外曝光机/光刻系统以其高的性价比而让人印象深刻。
掩膜对准曝光机/光刻系统的组件主要包含：
紫外光源构造
带托盘的晶片工作台
配CCD镜头的显微镜
器
掩膜夹具
紫外光源透镜
紫外光源镜片
紫外灯电源系统
操作控制器
350W紫外灯
需要更详细的产品资料，
请与迈可诺技术有限公司中销服务中心区域办公室联系！
MYCRO掩膜对准曝光机/光刻系统的曝光方式，是采用可调节压力的接触式曝光，降低了光刻胶对掩模版的污染以及掩模版的磨损，从而掩模版的寿命。因此，MYCRO紫外曝光机/光刻系统以其高的性价比而让人印象深刻。
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紫外光源构造
带托盘的晶片工作台
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