技术参数
分析范围：1PPM-99.99%
同时分析：几十种元素同时分析
测镀层厚度至0.01微米
测量对象：固体，粉未，液体
测量时间：60-300秒
测量：0.05%
分析元素：Na-U
工作温度：15-26℃
相对湿度：≤70%
重量：80KG
功耗：200瓦
主要特点
1、仪器尺寸 630mm*440mm*380mm
2、测量样品室 400mm*260mm*110mm
3、重量约 40Kg
4、适宜温度 5-30℃
5、相对湿度≤80%
6、元素分析范围钾（K）到铀（U）
7、含量分析范围为 2 PPm 到 100000 ppm
8、测量时间 60-300秒（任意调整）
9、分辨率 149--186 eV FWHM＠5.9 KeV
10、电源交流 220V&plun;5V 或 110V&plun;5V
11、电源频率 47-63 Hz
12、高压输入＋24V DC＋-10%，4.0 A（）
13、高压输出 0-50KV＠1mA 功率 50W
仪器配置：
电制冷硅探测器：美国Amptek公司定制
高压电源：美国Spellman
DP4：高集成度数据处理器美国Amptek公司定制
X光管：荧光分析仪
制冷系统：在电子式制冷的基础上又增加两套水循环制冷系统
计算机：DELL-OPTIPLEX 210L商务
软件：RoHS标准全套检测软件
分析范围：1PPM-99.99%
同时分析：几十种元素同时分析
测镀层厚度至0.01微米
测量对象：固体，粉未，液体
测量时间：60-300秒
测量：0.05%
分析元素：Na-U
工作温度：15-26℃
相对湿度：≤70%
重量：80KG
功耗：200瓦
主要特点
1、仪器尺寸 630mm*440mm*380mm
2、测量样品室 400mm*260mm*110mm
3、重量约 40Kg
4、适宜温度 5-30℃
5、相对湿度≤80%
6、元素分析范围钾（K）到铀（U）
7、含量分析范围为 2 PPm 到 100000 ppm
8、测量时间 60-300秒（任意调整）
9、分辨率 149--186 eV FWHM＠5.9 KeV
10、电源交流 220V&plun;5V 或 110V&plun;5V
11、电源频率 47-63 Hz
12、高压输入＋24V DC＋-10%，4.0 A（）
13、高压输出 0-50KV＠1mA 功率 50W
仪器配置：
电制冷硅探测器：美国Amptek公司定制
高压电源：美国Spellman
DP4：高集成度数据处理器美国Amptek公司定制
X光管：荧光分析仪
制冷系统：在电子式制冷的基础上又增加两套水循环制冷系统
计算机：DELL-OPTIPLEX 210L商务
软件：RoHS标准全套检测软件
