等离子刻蚀机

　　平面刻蚀是在两块平面电之间进行刻蚀，它与常见的感应耦合等离子体（ICP）不同，是通过高压线圈产生的。我们的SCE系列铝制反应舱等离子体系统是该领域新的产品。
　　无论是做研发阶段还是量产阶段，款SCE系统可以满足用户的需要。无论从设备设计质量还是经济实用的角度考量，我们的等离子平面刻蚀机都具优势。
　　SCEA1414铝制舱等离子平面刻蚀机
　　1，可配三路气体通路；
　　2，约45升舱体容积（14x14x14英寸）的反应舱；
　　3，可配四种不同等离子模式的四托架结构；
　　4，射频功率为0-300瓦，13.56兆赫兹；
　　5，可选配　600瓦和1000瓦　13.56兆赫兹的功率源；
　　6，可选配低频；
　　SCEA1818铝制舱等离子平面刻蚀机
　　1，可提供四路气体通道；
　　2，约96升舱体容积（18x18x18英寸）的反应舱体；
　　3，配有6托架结构，可支持初级或者下游等离子
　　4，可选配机械手样品上装置；
　　5，可选配生产线设置；
　　6，射频功率为0-600瓦，13.56兆赫兹；
　　7，可选配1000瓦　13.56兆赫兹的功率源；
　　8，可选配低频；
　　SCEQ0408石英舱等离子平面刻蚀机
　　1，可配三路气体通路；
　　2，约1.6升舱体容积（4英寸直径8英寸深度）的反应舱体；
　　3，标配射频功率为0-150瓦手调，13.56兆赫兹；
　　4，可选配0-300瓦电调，13.56兆赫兹的功率源；
　　SCEQ0608石英舱等离子平面刻蚀机
　　1，可配三路气体通路；
　　2，约3.7升舱体容积（6英寸直径　8英寸深度）的反应舱体；
　　3，标配射频功率为0-150瓦手调，13.56兆赫兹；
　　4，可选配0-300瓦电调，13.56兆赫兹的功率源；
　　SCEQ0808石英舱等离子平面刻蚀机
　　1，可配三路气体通路；
　　2，约6.5升舱体容积（8英寸直径8英寸深度）的反应舱体；
　　3，标配射频功率为0-150瓦手调，13.56兆赫兹；
　　4，可选配0-300瓦电调，13.56兆赫兹的功率源；
　　石英舱系统可以配置，用于平面定向要非等向性和感应耦合等离子体（ICP）定向两种模式的等离子体产生。
　　需要更详细的等离子平面刻蚀机的信息，
　　
　　等离子刻蚀机商品信息
　　
　　迈可诺技术有限公司是一家致力于光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商，在中国大陆设有内地营销服务中心，经销欧美日韩品牌实验室光电半导体化工仪器设备，附件，试剂耗材，对中国国内广大客户提供的产品咨询和技术销售服务。
　　公司名称：迈可诺技术有限公司主营产品：匀胶机等离子清洗机旋涂仪　SLD/SLED　单色仪光谱仪公司成立年份：2008
　　等离子刻蚀机产品概况
　　
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