一、真空箱式炉应用领域
该真空箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，真空箱式炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理；也可以用于材料的热处理。
二、真空箱式炉主要特点
炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗炉膛进气口，出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体，能抽真空，真空度可达5pa，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
该真空箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，真空箱式炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理；也可以用于材料的热处理。
二、真空箱式炉主要特点
炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗炉膛进气口，出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体，能抽真空，真空度可达5pa，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
其他说明
| 设备型号 | ZWF1600 -I | ZWF1600 -II | ZWF1600 -III | ZWF1600 -IV | ZWF1600 - V |
| 温度 | 1600℃ | 1600℃ | 1600℃ | 1600℃ | 1600℃ |
| 控制 | &plun;1℃ | &plun;1℃ | &plun;1℃ | &plun;1℃ | &plun;1℃ |
| 炉膛尺寸 (mm) (W *H*L ) | 150*150*200 | 200*200*300 | 250*250*400 | 300*300*400 | 400*400*500 |
| 发热元件 | Φ6*210*210*30 U型硅钼棒 | Φ6*320*270*30 U型硅钼棒 | Φ6*340*270*30 U型硅钼棒 | Φ6*370*270*30 U型硅钼棒 | |
| 真空度 | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa |
| 冷态压升率 | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h |
| 功率 | 4Kw | 6kw | 10kw | 12kw | 16kw |
| 温控方式 | 可控硅模块自控 | ||||
